Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0390057 - FZÚ 2013 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Margarone, Daniele - Klimo, Ondřej - Kim, I. J. - Prokůpek, Jan - Limpouch, Jiří - Jeong, T.M. - Mocek, Tomáš - Pšikal, Jan - Kim, H. T. - Proška, J. - Nam, K.H. - Štolcová, Lucie - Choi, I.W. - Lee, S.K. - Sung, J.H. - Yu, T.J. - Korn, Georg
    Laser-driven proton acceleration enhancement by nanostructured foils.
    Physical Review Letters. Roč. 109, č. 23 (2012), , "234801-1"-"234801-5". ISSN 0031-9007. E-ISSN 1079-7114
    Grant CEP: GA MŠMT ED1.1.00/02.0061; GA ČR(CZ) GAP205/11/1165; GA MŠMT ED2.1.00/01.0027; GA MŠMT EE.2.3.20.0087
    GRANT EU: European Commission(XE) 284464 - LASERLAB-EUROPE
    Grant ostatní: ELI Beamlines(XE) CZ.1.05/1.1.00/02.0061; HILASE(XE) CZ.1.05/2.1.00/01.0027; OP VK 2 LaserGen(XE) CZ.1.07/2.3.00/20.0087; AVČR(CZ) M100101210
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: proton acceleration * laser-nanosphere interaction
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Impakt faktor: 7.943, rok: 2012
    http://prl.aps.org/abstract/PRL/v109/i23/e234801
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0218974
     
     
  2. 2.
    0021095 - FZÚ 2006 NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Baroch, P. - Musil, Jindřich - Vlček, J. - Nam, K.H. - Han, J.G.
    Reactive magnetron sputtering of TiOx films.
    Surface and Coatings Technology. Roč. 193, - (2005), s. 107-111. ISSN 0257-8972
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) ME 203; GA MŠMT(CZ) ME 529
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100520
    Klíčová slova: TiOx films * dual magnetron * hysteresis effect
    Impakt faktor: 1.646, rok: 2005
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0110115
     
     
  3. 3.
    0021094 - FZÚ 2006 CH eng J - Článek v odborném periodiku
    Musil, Jindřich - Baroch, P. - Vlček, J. - Nam, K.H. - Han, J.G.
    Reactive magnetron sputtering of thin films: present status and trends.
    Thin Solid Films. Roč. 475, - (2005), s. 208-218. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) ME 203; GA MŠMT(CZ) ME 529
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100520
    Klíčová slova: continuous and pulsed reactive magnetron sputtering * deposition rate * nanocomposites
    Impakt faktor: 1.569, rok: 2005
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0110114
     
     


  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.