Výsledky vyhledávání
- 1.0025952 - FZÚ 2006 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Juha, Libor - Bittner, Michal - Chvostová, Dagmar - Krása, Josef - Präg R., Ansgar - Ullschmied, Jiří - Pientka, Zbyněk - Krzywinski, J. - Wawro, A. - Grisham, M. E. - Menoni, C.S. - Rocca, J.J. - Otčenášek, Zdeněk - Pelka, B. - Vaschenko, G. O.
Ablation of organic polymers by 46.9-nm-laser radiation.
[Ablace organických polymerů laserovým zářením o vlnové délce 46,9 nm.]
Applied Physics Letters. Roč. 86, č. 3 (2005), 034109/1-034109/3. ISSN 0003-6951. E-ISSN 1077-3118
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) 1P04LA235; GA MŠMT(CZ) LN00A100
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: ablation * XUV laser * capillary discharge laser
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 4.127, rok: 2005
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0116274 - 2.0025721 - FZÚ 2006 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Juha, Libor - Bittner, Michal - Chvostová, Dagmar - Létal, V. - Krása, Josef - Otčenášek, Zdeněk - Kozlová, Michaela - Polan, Jiří - Präg R., Ansgar - Rus, Bedřich - Stupka, Michal - Krzywinski, J. - Andrejczuk, A. - Pelka, J. B. - Sobierajski, R. - Ryc, L. - Feldhaus, J. - Boody, F. P. - Grisham, M. E. - Vaschenko, G. O. - Menoni, C.S. - Rocca, J.J.
XUV-laser induced ablation of PMMA with nano-, pico-, and femtosecond pulses.
[Ablace PMMA indukovaná nano-, piko- a femtosekundovými impulzy XUV laserů.]
Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena. 144-147, - (2005), s. 929-932. ISSN 0368-2048. E-ISSN 1873-2526
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) 1P04LA235; GA MŠMT(CZ) LN00A100
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: XUV lasers * soft x-ray lasers * ablation * pulse duration effects * wavelength effects * poly(methyl methacrylate) * PMMA
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 1.183, rok: 2005
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0116084 - 3.0025580 - FZÚ 2006 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Juha, Libor - Bittner, Michal - Chvostová, Dagmar - Krása, Josef - Kozlová, Michaela - Pfeifer, Miroslav - Polan, Jiří - Präg R., Ansgar - Rus, Bedřich - Stupka, Michal - Feldhaus, J. - Létal, V. - Otčenášek, Zdeněk - Krzywinski, J. - Nietubyc, R. - Pelka, J. B. - Andrejczuk, A. - Sobierajski, R. - Ryc, L. - Boody, F. P. - Bartnik, A. - Mikolajczyk, J. - Rakowski, R. - Kubát, Pavel - Pína, L. - Horváth, M. - Grisham, M. E. - Vaschenko, G. O. - Menoni, C.S. - Rocca, J.J. - Fiedorowicz, H.
Short-wavelength ablation of molecular solids: pulse duration and wavelength effects.
[Krátkovlnná ablace molekulárních pevných látek: vlivy vlnové délky a trvání impulzu.]
Journal of Microlithography Microfabrication and Microsystems. Roč. 4, č. 3 (2005), 033007/1-033007/11. ISSN 1537-1646.
[SPIE Conference on Fourth Generation X-Ray Sources and Optics. Denver, 00.08.2004-00.08.2004]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LN00A100; GA MŠMT(CZ) 1P04LA235
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: ablation * XUV * x-rays * x-ray laser * material processing * microlithography
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 1.389, rok: 2005
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0115955