Výsledky vyhledávání
- 1.0506556 - ÚFCH JH 2020 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Vyšín, L. - Burian, Tomáš - Ukraintsev, E. - Davídková, M. - Grisham, M. E. - Heinbuch, S. - Rocca, J.J. - Juha, L.
Dose-Rate Effects in Breaking DNA Strands by Short Pulses of Extreme Ultraviolet Radiation.
Radiation Research. Roč. 189, č. 5 (2018), s. 466-476. ISSN 0033-7587. E-ISSN 1938-5404
Grant CEP: GA ČR GA13-28721S; GA ČR(CZ) GBP108/12/G108
Institucionální podpora: RVO:61388955
Klíčová slova: soft-x-ray * low-energy electrons * plasmid dna * single-strand * adenine residues * photon energy * abasic sites
Obor OECD: Physical chemistry
Impakt faktor: 2.779, rok: 2018
Způsob publikování: Omezený přístup
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0297789Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0506556.pdf 2 682.5 KB Vydavatelský postprint vyžádat - 2.0503532 - ÚFP 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Vyšín, L. - Burian, Tomáš - Ukrajintsev, E. - Davídková, M. - Grisham, M. E. - Heinbuch, S. - Rocca, J.J. - Juha, Libor
Dose-rate effects in breaking DNA strands by short pulses of extreme ultraviolet radiation.
Radiation Research. Roč. 189, č. 5 (2018), s. 466-476. ISSN 0033-7587. E-ISSN 1938-5404
GRANT EU: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: breaking DNA strands * extreme ultraviolet radiation * short pulses
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.779, rok: 2018
https://bioone.org/journals/Radiation-Research/volume-190/issue-2/RR00LV.1/Erratum/10.1667/RR00LV.1.short
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0295350 - 3.0496971 - FZÚ 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Vyšín, Luděk - Burian, Tomáš - Ukraintsev, Egor - Davídková, Marie - Grisham, M. E. - Heinbuch, S. - Rocca, J.J. - Juha, Libor
Dose-Rate effects in breaking DNA strands by short pulses of extreme ultraviolet radiation.
Radiation Research. Roč. 189, č. 5 (2018), s. 466-476. ISSN 0033-7587. E-ISSN 1938-5404
Grant CEP: GA ČR GA13-28721S
GRANT EU: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
Institucionální podpora: RVO:68378271 ; RVO:61389005
Klíčová slova: breaking DNA strands * short pulses * extreme ultraviolet radiation
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics); Nuclear physics (UJF-V)
Impakt faktor: 2.779, rok: 2018
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1667/RR14825.1
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0289592 - 4.0448547 - FZÚ 2016 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Nováková, Eva - Vyšín, Luděk - Burian, Tomáš - Juha, Libor - Davídková, Marie - Múčka, V. - Čuba, V. - Grisham, M. E. - Heinbuch, S. - Rocca, J.J.
Breaking DNA strands by extreme-ultraviolet laser pulses in vacuum.
Physical Review E. Roč. 91, č. 4 (2015), "042718-1"-"042718-8". ISSN 1539-3755
Grant CEP: GA ČR(CZ) GBP108/12/G108; GA ČR GA13-28721S
Institucionální podpora: RVO:68378271 ; RVO:61389005
Klíčová slova: XUV * DNA damages * single-strand breaks (SSBs) * double-strand breaks (DSBs)
Kód oboru RIV: BO - Biofyzika
Impakt faktor: 2.288, rok: 2014
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0250218 - 5.0025952 - FZÚ 2006 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Juha, Libor - Bittner, Michal - Chvostová, Dagmar - Krása, Josef - Präg R., Ansgar - Ullschmied, Jiří - Pientka, Zbyněk - Krzywinski, J. - Wawro, A. - Grisham, M. E. - Menoni, C.S. - Rocca, J.J. - Otčenášek, Zdeněk - Pelka, B. - Vaschenko, G. O.
Ablation of organic polymers by 46.9-nm-laser radiation.
[Ablace organických polymerů laserovým zářením o vlnové délce 46,9 nm.]
Applied Physics Letters. Roč. 86, č. 3 (2005), 034109/1-034109/3. ISSN 0003-6951. E-ISSN 1077-3118
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) 1P04LA235; GA MŠMT(CZ) LN00A100
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: ablation * XUV laser * capillary discharge laser
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 4.127, rok: 2005
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0116274 - 6.0025721 - FZÚ 2006 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Juha, Libor - Bittner, Michal - Chvostová, Dagmar - Létal, V. - Krása, Josef - Otčenášek, Zdeněk - Kozlová, Michaela - Polan, Jiří - Präg R., Ansgar - Rus, Bedřich - Stupka, Michal - Krzywinski, J. - Andrejczuk, A. - Pelka, J. B. - Sobierajski, R. - Ryc, L. - Feldhaus, J. - Boody, F. P. - Grisham, M. E. - Vaschenko, G. O. - Menoni, C.S. - Rocca, J.J.
XUV-laser induced ablation of PMMA with nano-, pico-, and femtosecond pulses.
[Ablace PMMA indukovaná nano-, piko- a femtosekundovými impulzy XUV laserů.]
Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena. 144-147, - (2005), s. 929-932. ISSN 0368-2048. E-ISSN 1873-2526
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) 1P04LA235; GA MŠMT(CZ) LN00A100
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: XUV lasers * soft x-ray lasers * ablation * pulse duration effects * wavelength effects * poly(methyl methacrylate) * PMMA
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 1.183, rok: 2005
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0116084 - 7.0025580 - FZÚ 2006 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Juha, Libor - Bittner, Michal - Chvostová, Dagmar - Krása, Josef - Kozlová, Michaela - Pfeifer, Miroslav - Polan, Jiří - Präg R., Ansgar - Rus, Bedřich - Stupka, Michal - Feldhaus, J. - Létal, V. - Otčenášek, Zdeněk - Krzywinski, J. - Nietubyc, R. - Pelka, J. B. - Andrejczuk, A. - Sobierajski, R. - Ryc, L. - Boody, F. P. - Bartnik, A. - Mikolajczyk, J. - Rakowski, R. - Kubát, Pavel - Pína, L. - Horváth, M. - Grisham, M. E. - Vaschenko, G. O. - Menoni, C.S. - Rocca, J.J. - Fiedorowicz, H.
Short-wavelength ablation of molecular solids: pulse duration and wavelength effects.
[Krátkovlnná ablace molekulárních pevných látek: vlivy vlnové délky a trvání impulzu.]
Journal of Microlithography Microfabrication and Microsystems. Roč. 4, č. 3 (2005), 033007/1-033007/11. ISSN 1537-1646.
[SPIE Conference on Fourth Generation X-Ray Sources and Optics. Denver, 00.08.2004-00.08.2004]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LN00A100; GA MŠMT(CZ) 1P04LA235
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: ablation * XUV * x-rays * x-ray laser * material processing * microlithography
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 1.389, rok: 2005
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0115955