Výsledky vyhledávání
- 1.0497873 - FZÚ 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I.A. - Milov, I. - Chalupský, Jaromír - Tiedtke, K. - Enkisch, H. - de Vries, G. - Scholze, F. - Siewert, F. - Sturm, J.M. - Nikolaev, K. - van de Kruijs, R.W.E. - Smithers, M.A. - van Wolferen, H.A.G.M. - Keim, E.G. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pelka, J. B. - Juha, Libor - Hájková, Věra - Vozda, Vojtěch - Burian, Tomáš - Saksl, Karel - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Donker, R. - Mey, T. - Sobierajski, R.
Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold.
Journal of the Optical Society of America. B. Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805. ISSN 0740-3224. E-ISSN 1520-8540
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA17-05167s; GA MŠMT LG15013; GA ČR(CZ) GA14-29772S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: interaction of femtosecond XUV pulses * single-shot ablation threshold * damage accumulation in thin ruthenium films
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.284, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0290344 - 2.0466618 - FZÚ 2017 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Sobierajski, R. - Jacyna, I. - Dlužewski, P. - Klepka, M.T. - Klinger, D. - Pelka, J. B. - Burian, Tomáš - Hájková, Věra - Juha, Libor - Saksl, K. - Vozda, Vojtěch - Makhotkin, I. - Louis, E. - Faatz, B. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Enkisch, H. - Hermann, M. - Strobel, S. - Loch, R.A. - Chalupský, Jaromír
Role of heat accumulation in the multi-shot damage of silicon irradiated with femtosecond XUV pulses at a 1 MHz repetition rate.
Optics Express. Roč. 24, č. 14 (2016), s. 15468-15477. ISSN 1094-4087
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LH14072; GA ČR(CZ) GA14-29772S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: free-electron lasers * damage * x-rays * soft x-rays * extreme ultraviolet (EUV) * semiconductor materials * materials processing
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 3.307, rok: 2016
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0264888 - 3.0422836 - FZÚ 2014 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Wierzchowski, W. - Wieteska, K. - Klinger, D. - Sobierajski, R. - Pelka, J. B. - Zymierska, D. - Balcer, T. - Chalupský, Jaromír - Gaudin, J. - Hájková, Věra - Burian, Tomáš - Gleeson, A.J. - Juha, Libor - Sinn, H. - Sobota, D. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Tschentscher, T. - Vyšín, Luděk - Wabnitz, H. - Paulmann, C.
Investigation of damage induced by intense femtosecond XUV pulses in silicon crystals by means of white beam synchrotron section topography.
Radiation Physics and Chemistry. Roč. 93, Dec (2013), s. 99-103. ISSN 0969-806X. E-ISSN 1879-0895
Grant CEP: GA MŠMT ED1.1.00/02.0061; GA MŠMT EE.2.3.20.0087; GA ČR(CZ) GAP108/11/1312; GA ČR GAP208/10/2302; GA ČR GAP205/11/0571; GA MŠMT EE2.3.30.0057
Grant ostatní: ELI Beamlines(XE) CZ.1.05/1.1.00/02.0061; OP VK 2 LaserGen(XE) CZ.1.07/2.3.00/20.0087; AVCR(CZ) M100101221; OP VK 4 POSTDOK(XE) CZ.1.07/2.3.00/30.0057
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: silicon * XUV * FEL * ablation * X-ray topography * deformation fields
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 1.189, rok: 2013
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0228967 - 4.0359322 - FZÚ 2012 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Sobierajski, R. - Bruijn, S. - Khorsand, A.R. - Louis, E. - van de Kruijs, R.W.E. - Burian, Tomáš - Chalupský, Jaromír - Cihelka, Jaroslav - Gleeson, A. - Grzonka, J. - Gullikson, E.M. - Hájková, Věra - Hau-Riege, S. - Juha, Libor - Jurek, M. - Klinger, D. - Krzywinski, J. - London, R. - Pelka, J. B. - Płociński, T. - Rasiński, M. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Vyšín, Luděk - Wabnitz, H. - Bijkerk, F.
Damage mechanisms of MoN/SiN multilayer optics for next-generation pulsed XUV light sources.
Optics Express. Roč. 19, č. 1 (2011), s. 193-205. ISSN 1094-4087
Grant CEP: GA AV ČR KAN300100801; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA AV ČR IAA400100701
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: laser damage * thermal effects * multilayers * optical design and fabrication * free-electron lasers
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 3.587, rok: 2011
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0197124 - 5.0342469 - FZÚ 2011 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Khorsand, A.R. - Sobierajski, R. - Louis, E. - Bruijn, S. - van Hattum, E.D. - van de Kruijs, R.W.E. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pelka, J. B. - Juha, Libor - Burian, Tomáš - Chalupský, Jaromír - Cihelka, Jaroslav - Hájková, Věra - Vyšín, Luděk - Jastrow, U. - Stojanovic, N. - Toleikis, S. - Wabnitz, H. - Tiedtke, K. - Sokolowski-Tinten, K. - Shymanovich, U. - Krzywinski, J. - Hau-Riege, S. - London, R. - Gleeson, A. - Gullikson, E.M. - Bijkerk, F.
Single shot damage mechanism of Mo/Si multilayer optics under intense pulsed XUV-exposure.
Optics Express. Roč. 18, č. 2 (2010), 700-712. ISSN 1094-4087
Grant CEP: GA AV ČR KAN300100702; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA AV ČR IAA400100701
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: laser damage * thermal effects * multilayers * optical design and fabrication * free-electron lasers
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 3.749, rok: 2010
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0185200 - 6.0334118 - FZÚ 2010 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Pelka, J. B. - Sobierajski, R. - Klinger, D. - Paszkowicz, W. - Krzywinski, J. - Jurek, M. - Zymierska, D. - Wawro, A. - Petroutchik, A. - Juha, Libor - Hájková, Věra - Cihelka, Jaroslav - Chalupský, Jaromír - Burian, T. - Vyšín, Luděk - Toleikis, S. - Sokolowski-Tinten, K. - Stojanovic, N. - Zastrau, U. - London, R. - Hau-Riege, S. - Riekel, C. - Davies, R. - Burghammer, M. - Dynowska, E. - Szuszkiewicz, W. - Caliebe, W. - Nietubyc, R.
Damage in solids irradiated by a single shot of XUV free-electron laser: irreversible changes investigated using X-ray microdiffraction, atomic force microscopy and Nomarski optical microscopy.
[Poškození pevné látky ozářené jednotlivým impulzem XUV laseru s volnými elektrony: nevratné změny povrchu sledované pomocí rtg. mikrodifrakce, mikroskopie atomárních sil a Nomarského optické mikroskopie.]
Radiation Physics and Chemistry. Roč. 78, Suppl. 10 (2009), S46-S52. ISSN 0969-806X. E-ISSN 1879-0895
Grant CEP: GA AV ČR KAN300100702; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA AV ČR IAA400100701
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: XUV FEL * radiation damage * ablation * structure modifications * x-ray diffraction
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 1.149, rok: 2009
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0178937 - 7.0334092 - FZÚ 2010 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hau-Riege, S.P. - London, R.A. - Bionta, R.M. - Ryutov, D. - Soufli, R. - Bajt, S. - McKernan, M.A. - Baker, S. L. - Krzywinski, J. - Sobierajski, R. - Nietubyc, R. - Klinger, D. - Pelka, J. B. - Jurek, M. - Juha, Libor - Chalupský, Jaromír - Cihelka, Jaroslav - Hájková, Věra - Velyhan, Andriy - Krása, Josef - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Wabnitz, H. - Bergh, M. - Caleman, C. - Timneanu, N.
Wavelength dependence of the damage threshold of inorganic materials under extreme-ultraviolet free-electron-laser irradiation.
[Závislost prahu poškození anorganických materiálů ozářených XUV laserem s volnými elektrony.]
Applied Physics Letters. Roč. 95, č. 11 (2009), 111104/1-111104/3. ISSN 0003-6951. E-ISSN 1077-3118
Grant CEP: GA AV ČR KAN300100702; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA AV ČR IAA400100701
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: damage threshold * silicon carbide * boron carbide * soft X-ray free-electron laser
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 3.554, rok: 2009
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0178918 - 8.0334060 - FZÚ 2010 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Chalupský, Jaromír - Juha, Libor - Hájková, Věra - Cihelka, Jaroslav - Vyšín, Luděk - Gautier, J. - Hajdu, J. - Hau-Riege, S.P. - Jurek, M. - Krzywinski, J. - London, R.A. - Papalazarou, E. - Pelka, J. B. - Rey, G. - Sebban, S. - Sobierajski, R. - Stojanovic, N. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Tschentscher, T. - Valentin, C. - Wabnitz, H. - Zeitoun, P.
Non-thermal desorption/ablation of molecular solids induced by ultra-short soft x-ray pulses.
[Netepelná desorpce/ablace molekulárních pevných látek indukovaná ultra-krátkými pulsy měkkého rentgenového záření.]
Optics Express. Roč. 17, č. 1 (2009), s. 208-217. ISSN 1094-4087
Grant CEP: GA AV ČR KAN300100702; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA AV ČR IAA400100701
Grant ostatní: EU FP6 NEST-Adventure(XE) 012843
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: x-ray laser * high-order harmonics * free-electron laser * desorption * ablation * organic polymer
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 3.278, rok: 2009
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0178894 - 9.0104244 - FZU-D 20040586 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Pelka, J. B. - Andrejczuk, A. - Reniewicz, H. - Schell, N. - Krzywinski, J. - Sobierajski, R. - Wawro, A. - Zytkiewicz, Z. R. - Klinger, D. - Juha, Libor
Structure modifications in silikon irradiated by ultra-short pulses of XUV free electron laser.
[Strukturní přeměny křemíku ozářeného ultrakrátkými impulzy XUV laseru na volných elektronech.]
Journal of Alloys and Compounds. Roč. 382, - (2004), s. 264-270. ISSN 0925-8388. E-ISSN 1873-4669
Grant CEP: GA MŠMT 1P04LA235; GA MŠMT LN00A100
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
Klíčová slova: XUV ablation * free electron laser
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.562, rok: 2004
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0011519 - 10.0086012 - FZÚ 2008 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hau-Riege, S.P. - London, R.A. - Bionta, R.M. - McKernan, M.A. - Baker, S. L. - Krzywinski, J. - Sobierajski, R. - Nietubyc, R. - Pelka, J. B. - Jurek, M. - Juha, Libor - Chalupský, Jaromír - Cihelka, Jaroslav - Hájková, Věra - Velyhan, Andriy - Krása, Josef - Kuba, J. - Tiedtke, K. - Toleikis, S. - Tschentscher, T. - Wabnitz, H. - Bergh, M. - Caleman, C. - Sokolowski-Tinten, K. - Stojanovic, N. - Zastrau, U.
Damage threshold of inorganic solids under free-electron-laser irradiation at 32.5 nm wavelength.
[Prahy poškození anorganických pevných látek ozářených laserem s volnými elektrony na vlnové délce 32,5 nm.]
Applied Physics Letters. Roč. 90, č. 17 (2007), 173128/1-173128/3. ISSN 0003-6951. E-ISSN 1077-3118
Grant CEP: GA MŠMT 1P04LA235; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA AV ČR KAN300100702
Grant ostatní: European Commission(XE) RII-CT-2004-506008, IA-SFS; GA MŠk(CZ) 1K05026
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523; CEZ:AV0Z40400503
Klíčová slova: free-electron laser, * soft X-rays * damage threshold, * laser-matter interaction * ablation
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 3.596, rok: 2007
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0148390