Výsledky vyhledávání
- 1.0323375 - ÚJF 2009 RIV RO eng J - Článek v odborném periodiku
Buršíková, V. - Dvořák, P. - Zajíčková, L. - Franta, D. - Janča, J. - Buršík, Jiří - Sobota, Jaroslav - Klapetek, P. - Bláhová, O. - Peřina, Vratislav
Deposition and characterisation of nanostructured silicon-oxide containing diamond-like carbon coatings.
[Depozice a charakterizace nanostrukturovaného kysličníku křemíku obsahujícího uhlíkové povlaky podobné diamantu.]
Optoelectronics and Advanced Materials - Rapid Communications. Roč. 1, č. 10 (2007), s. 491-495. ISSN 1842-6573. E-ISSN 2065-3824
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA202/05/0607
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20410507; CEZ:AV0Z20650511; CEZ:AV0Z10480505
Klíčová slova: nanostructured coatings * hardness * adhesion * fracture toughness
Kód oboru RIV: JI - Kompozitní materiály
Impakt faktor: 0.000, rok: 2007
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0171355 - 2.0204727 - UPT-D 950030 RIV SK eng J - Článek v odborném periodiku
Janča, J. - Kryštof, P. - Navrátil, K. - Němec, P. - Bochníček, Z. - Matějková, Jiřina
Deposition and Characterization of Organosilicon Thin Films from TEOS+O2 Gas Mixture.
Acta Physica Universitatis Comenianae. Roč. 36, č. 1 (1995), s. 57-64. ISSN 0231-889X
Grant CEP: GA ČR GA202/93/2118
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0100347 - 3.0185841 - UJF-V 20033170 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Zajíčková, L. - Bursíková, V. - Peřina, Vratislav - Macková, Anna - Janča, J.
Correlation between SiOx content and properties of DLC : SiOx films prepared by PECVD.
Surface and Coatings Technology. Roč. 174, - (2003), s. 281-285. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA AV ČR KSK1010104
Klíčová slova: diamond-like carbon * mechanical-properties * optical properties
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.410, rok: 2003
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0082197 - 4.0185382 - UJF-V 20010109 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Zajíčková, L. - Bursíková, V. - Peřina, Vratislav - Macková, Anna - Subedi, D. - Janča, J.
Plasma modification of polycarbonates.
Surface and Coatings Technology. Roč. 142, - (2001), s. 449-454. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA ČR GV202/97/K038; GA AV ČR KSK1010104
Kód oboru RIV: BG - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače
Impakt faktor: 1.236, rok: 2001
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0081780 - 5.0185122 - UJF-V 20000293 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Zajíčková, L. - Janča, J. - Peřina, Vratislav
Characterization of silicon oxide thin films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition from octamethylcyclotetrasiloxane/oxygen feeds.
Thin Solid Films. Roč. 338, - (1999), s. 49-59. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
Kód oboru RIV: BG - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače
Impakt faktor: 1.101, rok: 1999
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0081539 - 6.0184469 - UJF-V 980292 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Peřina, Vratislav - Janča, J. - Zajíčková, L.
Characterization of silicon oxide thin films depositde by plasma enhanced chemical vapour deposition from octamethylcyclotetrasiloxane/oxygen feeds.
Thin Solid Films. Roč. 332, - (1998), s. 1-11. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
Kód oboru RIV: BG - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače
Impakt faktor: 1.019, rok: 1998
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0080897 - 7.0183551 - UJF-V 950138 RIV CZ eng J - Článek v odborném periodiku
Peřina, Vratislav - Janča, J.
Deposition and characterization of organosilicon thin films from TEOS+O.SUB.2 gas mixture.
Czechoslovak Journal of Physics. Roč. 45, - (1995), s. 851-862. ISSN 0011-4626
Impakt faktor: 0.310, rok: 1995
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0001971 - 8.0179126 - UFP-V 20030003 RIV CZ eng J - Článek v odborném periodiku
Eliáš, M. - Žíla, J. - Janča, J. - Brožek, Vlastimil
Simultaneous plasmachemical reduction of mixed tungsten and titanium precursors.
Czechoslovak Journal of Physics. Roč. 52, č. 7 (2002), s. D857-D860. ISSN 0011-4626.
[Symposium on Plasma Physics and Technology /20./. Prague, 10.06.2002-13.06.2002]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z2043910
Klíčová slova: ammonium paratungstanate, tungsten, titanium, reduction
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 0.311, rok: 2002
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0001651 - 9.0179125 - UFP-V 20030002 RIV CZ eng J - Článek v odborném periodiku
Eliáš, M. - Kudrle, V. - Janča, J. - Brožek, Vlastimil
Plasmachemical nitridation of boron precursors.
Czechoslovak Journal of Physics. Roč. 52, č. 7 (2002), s. D850-D856. ISSN 0011-4626.
[Symposium on Plasma Physics and Technology /20./. Prague, 10.06.2002-13.06.2002]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z2043910
Klíčová slova: plasma synthesis, boron nitride
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 0.311, rok: 2002
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0001650 - 10.0178058 - UFM-A 20033076 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Kadlečíková, M. - Breza, J. - Veselý, M. - Frgala, Z. - Kudrle, V. - Janča, J. - Janík, J. - Buršík, Jiří
Raman bands in microwave plasma assisted chemical vapour deposited films.
Microelectronics Journal. Roč. 34, č. 11 (2003), s. 1075-1077. ISSN 0026-2692. E-ISSN 1879-2391
Grant CEP: GA AV ČR IBS2041105; GA MŠMT OC 527.20
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z2041904
Klíčová slova: chemical vapour deposition * diamond * Raman spectroscopy
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 0.565, rok: 2003
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0074952