Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0579072 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Košelová, Zuzana - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Knápek, Alexandr
    SMV-2023-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2023-06: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: TESCAN Brno a.s., 2023. 4 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0347946
     
     
  2. 2.
    0579070 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Košelová, Zuzana - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Knápek, Alexandr
    SMV-2023-05: DI2023.
    [SMV-2023-05: DI2023.]
    Brno: DELONG INSTRUMENTS a.s., 2023. 4 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0347943
     
     
  3. 3.
    0566446 - ÚPT 2023 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
    SMV-2022-57: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2022-57: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: TESCAN Brno s.r.o., 2022. 5 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337763
     
     
  4. 4.
    0545142 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
    SMV-2021-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2021-03: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: Tescan Brno, s.r.o., 2021. 6 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
    Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321890
     
     
  5. 5.
    0536616 - ÚPT 2021 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Pokorná, Zuzana
    SMV-2020-23: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2020-23: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: Tescan Brno s.r.o., 2020. 8 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: relief structure: e-beam lithography * silicon etching * microlithography
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314396
     
     
  6. 6.
    0536030 - ÚPT 2021 CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr
    SMV-2020-24: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2020-24: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: Delong Instruments, a.s., 2020. 7 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: relief structure: e-beam lithography * relief structure: silicon etching * silicon etching * microlithography
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0313879
     
     
  7. 7.
    0525191 - ÚPT 2021 RIV SK eng J - Článek v odborném periodiku
    Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Řiháček, Tomáš - Knápek, Alexandr - Kolařík, Vladimír
    Functional nano-structuring of thin silicon nitride membranes.
    Journal of Electrical Engineering - Elektrotechnický časopis. Roč. 71, č. 2 (2020), s. 127-130. ISSN 1335-3632. E-ISSN 1339-309X
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008; GA MŠMT ED0017/01/01
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: membrane * nano optical device * electron optics * electron beam lithography * silicon nitride * reactive ion etching * silicon etching * microfabrication
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Impakt faktor: 0.647, rok: 2020
    Způsob publikování: Open access
    https://content.sciendo.com/view/journals/jee/71/2/article-p127.xml
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0309382
     
     
  8. 8.
    0518131 - ÚPT 2020 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr
    SMV-2019-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2019-06: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: TESCAN Brno s.r.o., 2019. 4 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: calibration specimen * relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0303306
     
     
  9. 9.
    0498864 - ÚPT 2019 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr
    SMV-2018-05: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
    [SMV-2018-05: Development of test specimens for SEM.]
    Brno: TESCAN Brno, 2018. 5 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
    Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0291155
     
     
  10. 10.
    0484819 - FZÚ 2018 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Křížek, Filip - Pikna, Peter - Fejfar, Antonín
    Silver catalysed nanoscale silicon etching in water vapour.
    NANOCON 2014. 6th International conference proceedings. Ostrava: TANGER, 2014, s. 21-24. ISBN 978-80-87294-55-0.
    [NANOCON International Conference /6./. Brno (CZ), 05.11.2014-07.11.2014]
    Grant CEP: GA ČR GA13-25747S; GA ČR GA13-12386S; GA MŠMT(CZ) LM2011026
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: silicon etching * water vapour * silver nanoparticles * thermal annealing
    Obor OECD: Nano-materials (production and properties)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0279955
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.