Výsledky vyhledávání
- 1.0583494 - FZÚ 2024 RIV SK eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Remeš, Zdeněk - Babčenko, Oleg - Ridzoňová, Katarína - Tesárek, P.
Surface changes induced by Argon plasma treatment of silicon dioxide microparticles.
Proceedings of ADEPT - ADEPT 2023. Žilina: University of Žilina, 2023 - (Jandura, D.; Lettrichová, I.; Kováč, jr., J.), s. 47-50. ISBN 978-80-554-1977-0.
[International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies /11./ - ADEPT 2023. Podbanské (SK), 12.06.2023-15.06.2023]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MŠMT(CZ) GA23-05500S
Grant ostatní: AV ČR(CZ) SAV-23-13
Program: Bilaterální spolupráce
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab II - 90251
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: silicon dioxide * inductive coupled plasma * photothermal deflection spectroscopy * photoluminescence spectroscopy
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0351456 - 2.0578203 - ÚMCH 2025 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Tadyszak, Krzysztof - Tomšík, Elena - Černochová, Zulfiya
Electrochemical and radical properties of core-shell structure PDA@SiO2.
Synthetic Metals. Roč. 301, January-February (2024), č. článku 117492. ISSN 0379-6779. E-ISSN 0379-6779
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LM2023053; GA ČR(CZ) GA21-01090S
Institucionální podpora: RVO:61389013
Klíčová slova: polydopamine * silicon dioxide * core-shell structure
Obor OECD: Polymer science
Impakt faktor: 4.4, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S037967792300214X?via%3Dihub
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0350063 - 3.0561882 - ÚPT 2023 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Chylek, J. - Maniaková, P. - Hlubina, P. - Sobota, Jaroslav - Pudiš, D.
Highly Sensitive Plasmonic Structures Utilizing a Silicon Dioxide Overlayer.
Nanomaterials. Roč. 12, č. 18 (2022), č. článku 3090. E-ISSN 2079-4991
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: surface plasmon resonance * Kretschmann configuration * silicon dioxide overlayer * reflectance * aqueous analyte sensing
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 5.3, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
https://www.mdpi.com/2079-4991/12/18/3090
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0335270 - 4.0511229 - FZÚ 2020 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Konečny, M. - Bartošík, M. - Mach, J. - Švarc, V. - Nezval, D. - Piastek, J. - Procházka, P. - Cahlík, Aleš - Šikola, T.
Kelvin probe force microscopy and calculation of charge transport in a graphene/silicon dioxide system at different relative humidity.
ACS Applied Materials and Interfaces. Roč. 10, č. 14 (2018), s. 11987-11994. ISSN 1944-8244. E-ISSN 1944-8252
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: graphene * silicon dioxide * KPFM * RH * BET * electron hopping
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 8.456, rok: 2018
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1021/acsami.7b18041
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0301553 - 5.0493072 - ÚFP 2019 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Budasz, Jiří - Junek, Jiří - Václavík, Jan
Vhodná technologie nanášení ochranných dielektrických vrstev metodou IBAD na hliníkové reflexní vrstvy a substráty.
[A proper deposition of dielectric films by IBAD on aluminium reflective films and substrates.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 63, č. 7 (2018), s. 195-198. ISSN 0447-6441
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1206
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: thin films * IBAD * mirrors * aluminum * titanium dioxide * silicon dioxide
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0287979 - 6.0485903 - ÚFP 2018 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Budasz, Jiří - Huťka, Jan - Václavík, Jan
Redukce ztrát ve vrstvách tvořených kombinací TiO2 a SiO2.
[Losses reduction in coating based on TiO2 and SiO2 layers.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 62, 11-12 (2017), s. 299-302. ISSN 0447-6441
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1206
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: thin films * titanium dioxide * silicon dioxide * losses
Obor OECD: Coating and films
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0280828 - 7.0465202 - ÚPT 2017 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hudec, Jiří - Neděla, Vilém
Study of Dielectric Properties and Morphology of Epoxy Resin with Silicon Dioxide Microparticles and Nanoparticles.
Microscopy and Microanalysis. Roč. 22, S3 (2016), s. 1896-1897. ISSN 1431-9276. E-ISSN 1435-8115
Grant CEP: GA MŠMT ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: epoxy resin ESEM * Nanoparticles * silicon dioxide * ESEM
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Impakt faktor: 1.891, rok: 2016
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0263864 - 8.0464655 - ÚACH 2017 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Matys Grygar, Tomáš
Letter to Editor re Pavlovic et al. (2015).
Science of the Total Environment. Roč. 547, MAR (2016), s. 482-483. ISSN 0048-9697. E-ISSN 1879-1026
Institucionální podpora: RVO:61388980
Klíčová slova: organic matter * silicon dioxide * heavy metal * soil pollutan
Kód oboru RIV: DD - Geochemie
Impakt faktor: 4.900, rok: 2016
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0263469Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup Letter.pdf 0 634.1 KB Autorský postprint povolen - 9.0335271 - ÚPT 2010 RIV AT eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Mikmeková, Eliška - Janča, J. - Dvořáková, M.
Influence of process parameters on the properties of TEOS DF-PECVD grown SiO2 films by DOE.
MC 2009 - Microscopy Conference: First Joint Meeting of Dreiländertagung and Multinational Conference on Microscopy. Graz: Verlag der Technischen Universität, 2009, Vol. 3: 463-464. ISBN 978-3-85125-062-6.
[MC 2009 - Joint Meeting of Dreiländertagung and Multinational Congress on Microscopy /9./. Graz (AT), 30.08.2009-04.09.2009]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: DF-PECVD * silicon dioxide * intrinsic stress * DOE * SEM
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
http://www.univie.ac.at/asem/Graz_MC_09/papers/65557.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0179780 - 10.0328186 - ÚACH 2010 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Petrov, Yu.B. - Udalov, Yu.P. - Šubrt, Jan - Bakardjieva, Snejana - Sázavský, P. - Kiselová, M. - Selucký, P. - Bezdička, Petr - Jorneau, C. - Piluso, P.
Behavior of melts in the UO2-SiO2 system in the liquid-liquid phase separation region.
Glass Physics and Chemistry. Roč. 35, č. 2 (2009), s. 199-204. ISSN 1087-6596. E-ISSN 1608-313X
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z40320502
Klíčová slova: uranium oxide-silicon dioxide system
Kód oboru RIV: CA - Anorganická chemie
Impakt faktor: 0.434, rok: 2009
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0174559