Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0453004 - ÚPT 2016 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
    SMV-2015-14: Technologie elektronové litografie.
    [SMV-2015-14: Development of e-beam lithography technology.]
    Brno: Optaglio s.r.o, 2015. 4 s.
    Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
    Klíčová slova: e-beam lithography * shaped electron beam * Schottky ZrO/W electron emitter
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0253889
     
     
  2. 2.
    0387383 - ÚPT 2013 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Urbánek, Michal - Matějka, František - Matějka, Milan
    Thin Metallic Layers Structured by E-beam Lithography.
    METAL 2012 Conference Proceedings. 21st International Conference on Metallurgy and Materials. Ostrava: TANGER Ltd, 2012. ISBN 978-80-87294-29-1.
    [METAL 2012. International Conference on Metallurgy and Materials /21./. Brno (CZ), 23.05.2012-25.05.2012]
    Grant CEP: GA MŠMT ED0017/01/01
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: E-beam lithography * shaped electron beam * thin metallic layers * micro structures
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0216599
     
     
  3. 3.
    0386391 - ÚPT 2013 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Kolařík, Vladimír - Matějka, František - Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Urbánek, Michal - Bok, Jan - Krátký, Stanislav - Král, Stanislav - Mika, Filip
    What is the buzz about the TZ mode.
    Proceedings of the 13th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. Brno: Institute of Scientific Instruments AS CR, v.v.i, 2012 - (Mika, F.), s. 37-38. ISBN 978-80-87441-07-7.
    [International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation /13./. Skalský dvůr (CZ), 25.06.2012-29.06.2012]
    Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325; GA MŠMT ED0017/01/01
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: e-beam lithography * variable shaped electron beam
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0215691
     
     
  4. 4.
    0352423 - ÚPT 2011 RIV BR eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Matějka, František - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Král, Stanislav
    Modification of the Schottky FE ZrO/W electron emitter.
    Proceedings of the 17th IFSM International Microscopy Congress. Rio de Janeiro: Sociedade Brasileira de Microscopia e Microanilise, 2010, I1.12: 1-2. ISBN 978-85-63273-06-2.
    [International Microscopy Congress (IMC17) /17./. Rio de Janeiro (BR), 19.09.2010-24.09.2010]
    Grant CEP: GA AV ČR IAA100650803; GA MPO FR-TI1/576; GA MŠMT ED0017/01/01
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
    Klíčová slova: e-beam writing system * rectangular-shaped electron beam * point projection
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0191931
     
     
  5. 5.
    0336662 - ÚPT 2010 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
    Polívka, L. - Kolařík, Vladimír - Mikšík, P.
    Roční zpráva o řešení projektu MPO FR-TI1/574: Optimalizace výrobních postupů v elektronové litografií.
    [Annual report, project MPO FR-TI1/574: Optimization of production flow in electron-beam lithography and mastering.]
    Řež u Prahy: Ministerstvo průmyslu a obchodu ČR, 2010. 116 s.
    Grant CEP: GA MPO FR-TI1/574
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
    Klíčová slova: electron beam lithography * shaped electron beam
    Kód oboru RIV: JP - Průmyslové procesy a zpracování
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180850
     
     
  6. 6.
    0336589 - ÚPT 2010 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
    Kolařík, Vladimír - Matějka, František - Horáček, Miroslav - Lencová, Bohumila - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Urbánek, Michal - Mikšík, P. - Vašina, J. - Horák, R.
    Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm.
    [E-Beam Writing Technology with Variable Beam Size of 66 - 2100 nm.]
    Interní kód: 162 410 ; 2009
    Technické parametry: Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 1,8 – 3,6 – 14,4 A/cm2. Otočení souřadnic tvarování, vychylování a posuvu substrátu: -45 stupňů.
    Ekonomické parametry: Desetkrát vyšší proudová hustota umožňuje zvýšit základní expoziční dobu až desetkrát, což má přímý vliv na produktivitu. Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožňuje realizovat struktury dříve nerealizovatelné.
    Grant CEP: GA MPO FR-TI1/576
    Klíčová slova: electron beam lithography * shaped electron beam
    Kód oboru RIV: JP - Průmyslové procesy a zpracování
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180792
     
     
  7. 7.
    0314356 - ÚPT 2009 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
    Kolařík, Vladimír - Matějka, František - Lencová, Bohumila - Kokrhel, Svatopluk - Horáček, Miroslav - Radlička, Tomáš - Urbánek, Michal - Daněk, Lukáš
    Zápis tvarovaným elektronovým svazkem.
    [Writing System with Shaped Electron Beam.]
    Jemná mechanika a optika. Roč. 53, č. 1 (2008), s. 11-16. ISSN 0447-6441
    Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
    Klíčová slova: e-beam writing system * shaped electron beam * electron optics column * electron scattering * writing speed
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0164886
     
     
  8. 8.
    0092589 - ÚPT 2008 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Matějka, František - Horáček, Miroslav - Lencová, Bohumila - Kolařík, Vladimír
    Reducing the Size of a Rectangular-Shaped Electron Beam in E-Beam Writing System.
    [Zmenšení rozměru pravoúhlého elektronového svazku v elektronovém litografu.]
    Proceedings of the 8th Multinational Congress on Microscopy. Prague: Czechoslovak Microscopy Society, 2007 - (Nebesářová, J.; Hozák, P.), s. 87-88. ISBN 978-80-239-9397-4.
    [Multinational Congress on Microscopy /8./. Prague (CZ), 17.06.2007-21.06.2007]
    Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
    Klíčová slova: rectangular-shaped electron beam * e-beam writing system.
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0152867
     
     


  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.