Výsledky vyhledávání
- 1.0560196 - ÚFP 2023 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Adamovich, I. - Agarwal, S. - Ahedo, E. - Alves, L. L. - Baalrud, S. - Babaeva, N. - Bogaerts, A. - Bourdon, A. - Bruggeman, P.J. - Canal, C. - Choi, E. H. - Coulombe, S. - Donkó, B. - Graves, D.B. - Hamaguchi, S. - Hegemann, D. - Hori, M. - Kim, H. H. - Kroesen, G. M.W. - Kushner, M.J. - Laricchiuta, P. - Li, X. - Magini, A. G. - Mededovic Thagard, S. - Miller, V. - Murphy, A.B. - Oehrlein, G. S. - Puac, N. - Sankaran, R. M. - Samukawa, S. - Shiratani, M. - Šimek, Milan - Tarasenko, N. - Terashima, K. - Thomas, E. - Trieschmann, J. - Tsikata, S. - Turner, M. M. - van der Walt, I.J. - van de Sanden, MCM. - von Woedtke, T.
The 2022 Plasma Roadmap: low temperature plasma science and technology.
Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 55, č. 37 (2022), č. článku 373001. ISSN 0022-3727. E-ISSN 1361-6463
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA18-04676S
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: low temperature plasma * plasma applications * plasma diagnostics * plasma material processing * plasma modeling * plasma science and technology * roadmap
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.4, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6463/ac5e1c
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0333203 - 2.0467076 - ÚFCH JH 2017 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
da Costa, Sara - Ek Weis, Johan - Frank, Otakar - Kalbáč, Martin
Effect of layer number and layer stacking registry on the formation and quantification of defects in graphene.
Carbon. Roč. 98, MAR 2016 (2016), s. 592-598. ISSN 0008-6223. E-ISSN 1873-3891
Grant CEP: GA MŠMT LH13022
Institucionální podpora: RVO:61388955
Klíčová slova: Multi-layered graphene * Applied research * Plasma applications
Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
Impakt faktor: 6.337, rok: 2016
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0265217Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0467076.pdf 5 1.3 MB Vydavatelský postprint vyžádat - 3.0438735 - FZÚ 2015 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Olejníček, Jiří - Čada, Martin - Šmíd, Jiří - Kment, Štěpán - Hubička, Zdeněk
Multi-SWD plasma jet system for PECVD deposition of thin films.
IEEE Transactions on Plasma Science. Roč. 42, č. 10 (2014), s. 2502-2503. ISSN 0093-3813. E-ISSN 1939-9375
Grant CEP: GA TA ČR TA01011740; GA MŠMT LH12045
Grant ostatní: AVČR(CZ) M100101215
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: nuclear and plasma sciences * plasma applications * plasma devices * plasmas
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 1.101, rok: 2014
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0242111