Výsledky vyhledávání
- 1.0544775 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Kopal, Jaroslav - Brunn, Ondřej - Fordey, T. - Schovánek, P.
Specializovaná fotomaska pro měření projekční optiky.
[Special photomask for wavefront measurement of projection optics.]
Interní kód: APL-2021-04 ; 2021
Technické parametry: Rozměry vzorku: disk o průměru 20 mm tloušťky 0,6 mm. Mezní rozlišení vzorku: 511,36 nm.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Ondřej Brunn, brunn@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron beam lithography * photomask
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321586 - 2.0544061 - ÚPT 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Matějka, Milan - Burda, Daniel - Ondříšková, Martina - Lalinský, Ondřej - Horodyský, P.
Litografická maska.
[Lithographic mask.]
Interní kód: APL-2021-03 ; 2021
Technické parametry: Základními technickými parametry jsou perioda mřížky a procentuální pokrytí maskovací vrstvy.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Bc. Jana Chlumská, chlumska@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron beam lithography * photomask
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321117 - 3.0497921 - ÚPT 2019 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav - Fořt, Tomáš - Oulehla, Jindřich - Pokorný, Pavel
SMV-2018-04: Planární mikrostruktury pro optické aplikace.
[SMV-2018-04: Planar microstructures for optical applications.]
Brno: Meopta - optika, 2018. 10 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: e-beam lithography * photomask * reactive ion etching * optical density
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0290382