Výsledky vyhledávání
- 1.0495137 - ÚFCH JH 2019 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Čársky, Petr - Čurík, Roman
Chemické procesy iniciované nárazem elektronu v nanolitografické metodě FEBID a jejich popis pomocí teorie elektronového rozptylu.
[Electron Beam Induced Chemical Processes in the Nanolithographic Method FEBID and Their Description by Means of the Electron Scattering Theory.]
Chemické listy. Roč. 112, č. 10 (2018), s. 678-682. ISSN 0009-2770. E-ISSN 1213-7103
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA18-02098S
Institucionální podpora: RVO:61388955
Klíčová slova: electron beam induced chemistry * nanolithography * metal-ligand bond fission
Obor OECD: Physical chemistry
Impakt faktor: 0.311, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0288149Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0495137.pdf 2 735 KB Vydavatelský postprint vyžádat - 2.0490126 - ÚFCH JH 2019 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Kocábová, Jana - Kolivoška, Viliam - Gál, M. - Sokolová, Romana
Tuning phospholipid bilayer permeability by flavonoid apigenin: Electrochemical and atomic force microscopy study.
Journal of Electroanalytical Chemistry. Roč. 821, JUL 2018 (2018), s. 67-72. ISSN 1572-6657. E-ISSN 1873-2569
Institucionální podpora: RVO:61388955
Klíčová slova: Apigenin * Atomic force microscopy and nanolithography * Cyclic voltammetry * Electrochemical impedance spectroscopy * Electron transfer kinetics * Supported lipid bilayer
Obor OECD: Analytical chemistry
Impakt faktor: 3.218, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0284414Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0490126.pdf 1 897.2 KB Vydavatelský postprint vyžádat - 3.0370933 - ÚPT 2012 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Kolařík, Vladimír - Matějka, František - Horáček, Miroslav - Matějka, Milan - Urbánek, Michal
Nanolitografie a kompenzace magnetického pole v prostředí s průmyslovým rušením.
[Nanolithography and Magnetic Field Cancellation in the Industrial Area.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 56, 11-12 (2011), s. 312-316. ISSN 0447-6441
Grant CEP: GA MŠMT ED0017/01/01; GA MPO FR-TI1/576
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: E-beam writer with a shaped beam * magnetic field cancelling system * electron optics column * nanolithography * nanotechnology
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0204605 - 4.0341424 - ÚPT 2010 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Kettle, J. - Whitelegg, S. - Song, M. - Madec, M. B. - Yeates, S. - Turner, M. L. - Kotačka, L. - Kolařík, Vladimír
Fabrication of poly(3-hexylthiophene) self-switching diodes using thermal nanoimprint lithography and argon milling.
Journal of Vacuum Science & Technology B. Roč. 27, č. 6 (2009), s. 2801-2804. ISSN 1071-1023
Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: argon * milling * nanolithography * organic semiconductors * semiconductor diodes
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Impakt faktor: 1.460, rok: 2009
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0184421 - 5.0026426 - FZÚ 2006 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Výborný, Zdeněk
Elektronová litografie pro nanotechnologie.
[Electron beam lithography for nanotechnology.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 50, 11-12 (2005), s. 313-318. ISSN 0447-6441
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100521
Klíčová slova: lithography * photolithography * electron beam lithography * EBL * nanolithography * nanotechnology * SEM
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0116677