Výsledky vyhledávání
- 1.0579072 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Košelová, Zuzana - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Knápek, Alexandr
SMV-2023-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2023-06: Development of test specimens for SEM.]
Brno: TESCAN Brno a.s., 2023. 4 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0347946 - 2.0579070 - ÚPT 2024 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Košelová, Zuzana - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Knápek, Alexandr
SMV-2023-05: DI2023.
[SMV-2023-05: DI2023.]
Brno: DELONG INSTRUMENTS a.s., 2023. 4 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0347943 - 3.0566446 - ÚPT 2023 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
SMV-2022-57: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2022-57: Development of test specimens for SEM.]
Brno: TESCAN Brno s.r.o., 2022. 5 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0337763 - 4.0545142 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
SMV-2021-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2021-03: Development of test specimens for SEM.]
Brno: Tescan Brno, s.r.o., 2021. 6 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321890 - 5.0538397 - ÚPT 2021 RIV CZ cze O - Ostatní výsledky
Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Lalinský, Ondřej - Bábor, P. - Nejezchleb, K. - Horodyský, P. - Himics, D.
Nové monokrystaly pro elektronovou mikroskopii.
[New single crystals for electron microscopy.]
2020
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: scintillator * garnet * silicate * microlithography * cathodoluminescence * contamination * SIMS * LEIS * ITO
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0316202 - 6.0536616 - ÚPT 2021 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Pokorná, Zuzana
SMV-2020-23: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2020-23: Development of test specimens for SEM.]
Brno: Tescan Brno s.r.o., 2020. 8 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure: e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314396 - 7.0536030 - ÚPT 2021 CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr
SMV-2020-24: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2020-24: Development of test specimens for SEM.]
Brno: Delong Instruments, a.s., 2020. 7 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure: e-beam lithography * relief structure: silicon etching * silicon etching * microlithography
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0313879 - 8.0518131 - ÚPT 2020 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr
SMV-2019-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2019-06: Development of test specimens for SEM.]
Brno: TESCAN Brno s.r.o., 2019. 4 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: calibration specimen * relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0303306 - 9.0498864 - ÚPT 2019 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr
SMV-2018-05: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2018-05: Development of test specimens for SEM.]
Brno: TESCAN Brno, 2018. 5 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0291155 - 10.0483401 - ÚPT 2018 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr
SMV-2017-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2017-06: Development of test specimens for SEM.]
Brno: TESCAN, 2017. 6 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0278733