Výsledky vyhledávání
- 1.0567078 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Kapran, Anna - Antunes, V.G. - Hubička, Zdeněk - Ballage, C. - Minea, T.
Investigation of the magnetron balancing effect on the ionized flux fraction and deposition rate of sputtered titanium species for the high-power impulse magnetron sputtering pulses of different lengths.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 41, č. 1 (2023), č. článku 013003. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA21-04477S; GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * magnetron * ionized flux fraction * unbalanced magnetic field
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.9, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1116/6.0002309
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0342037 - 2.0519372 - FZÚ 2020 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Hajihoseini, H. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Ünaldi, S. - Raadu, M.A. - Brenning, N. - Gudmundsson, J.T. - Lundin, D.
The effect of magnetic field strength and geometry on the deposition rate and ionized flux fraction in the HiPIMS discharge.
Plasma. Roč. 2, č. 2 (2019), s. 201-221. E-ISSN 2571-6182
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR GA19-00579S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: ionized physical vapor deposition * magnetron sputtering * high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) * ionized flux fraction * deposition rate
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0304364Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0519372.pdf 0 1.2 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 3.0427184 - FZÚ 2015 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Kubart, T. - Čada, Martin - Lundin, D. - Hubička, Zdeněk
Investigation of ionized metal flux fraction in HiPIMS discharges with Ti and Ni targets.
Surface and Coatings Technology. Roč. 238, JAN (2014), s. 152-157. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA MŠMT LD12002; GA ČR GAP108/12/2104; GA MŠMT LH12043
Grant ostatní: AV ČR(CZ) M100101215
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * reactive sputtering * ionized flux fraction
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 1.998, rok: 2014
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0232785