Výsledky vyhledávání
- 1.0575340 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Matějka, Milan - Brunn, Ondřej
Kalibrační standard s mikro reliéfní kalibrační strukturou zaznamenané v tenké vrstvě.
[Calibration standard with micro relief calibration structure recorded in a thin layer.]
Interní kód: APL-2024-01 ; 2024
Technické parametry: Křemíkový čip rozměru 10 mm x 10 mm obsahující motiv kalibračních vzorů (s mikronovým a submikronovým rozlišením) vytvořených v tenké vrstvě feromagnetického materiálu naneseného pomocí PVD techniky.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek vyvinutý během řešení projektu s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW03010504
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: Calibration sample for microscopy * ferromagnetic layers * electron lithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0345129 - 2.0551708 - ÚPT 2022 RIV CZ cze O - Ostatní výsledky
Brunn, Ondřej - Burda, Daniel - Kolařík, Vladimír - Kopal, Jaroslav
Skleněná maska se sub mikronovými otvory.
[Glass mask with sub micron pinholes.]
2021
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: pinhole * mask * electron lithography
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0326939 - 3.0536665 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Kolařík, Vladimír - Burda, Daniel
Optický element vyvazující světlo z tenké transparentní podložky.
[An optical element that transmits light from a thin transparent pad.]
Interní kód: APL-2020-10 ; 2020
Technické parametry: Optický element tvořený planární strukturou v tenké vrstvě rezistu nanesené na průhledné podložce. Základním parametrem optického elementu je množství světla vyvedeného pomocí této planární struktury.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Milan Matějka, Ph.D., mmatejka@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: diffractive optical element * electron lithography * reactive ion etching * YAG phosphor * thin film deposition * PVD
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314401 - 4.0468286 - ÚPT 2017 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Zobač, Martin - Vlček, Ivan
SMV-2016-04: Výzkum a vývoj vysokonapěťového zdroje 100 kV.
[SMV-2016-04: Research and development of 100 kV high voltage power supply.]
Brno: TESCAN Brno, s.r.o., 2016. 10 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: high voltage * high tension * power supply * FEG * TEM * electron lithography
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0266185 - 5.0205671 - UPT-D 20030053 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Škoda, D. - Lopour, F. - Kalousek, R. - Burian, D. - Spousta, J. - Šikola, T. - Matějka, František
Aplikace AFM v oblasti přípravy a studia nanostruktur.
[Application of AFM in the area of nanostructures preparation and study.]
Československý časopis pro fyziku. Roč. 53, č. 2 (2003), s. 105 - 108. ISSN 0009-0700
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z2065902
Klíčová slova: electron lithography * nanotechnology * atomic force microscopy
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0101284 - 6.0205619 - UPT-D 20030001 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Matějka, František
Příprava víceúrovňových difraktivních optických elementů elektronovou litografií.
[Fabrication of Multilevel Diffractive Optical Elements using Electron Beam Lithography.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 48, č. 5 (2003), s. 138 - 141. ISSN 0447-6441
Grant CEP: GA AV ČR IBS2065014
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z2065902
Klíčová slova: diffractive optical elements * multilevel phase DOE * electron lithography
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0101232 - 7.0205590 - UPT-D 20020140 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Daněk, Lukáš
Víceúrovňové difraktivní struktury pro optické aktivní elementy.
[Multi-level diffraction structures for optical active elements.]
Sborník prací prezentovaných na Semináři doktorandů oboru Elektronová optika konaném dne 16. 12. 2002. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2002 - (Müllerová, I.), s. 11. ISBN 80-238-9915-5.
[PDS 2002. Brno (CZ), 16.12.2002]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z2065902
Klíčová slova: multilevel diffraction structures * electron lithography
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0101203