Výsledky vyhledávání
- 1.0503529 - ÚFP 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I.A. - Milov, I. - Chalupský, J. - Tiedtke, K. - Enkisch, H. - de Vries, G. - Scholze, F. - Siewert, F. - Sturm, J.M. - Nikolaev, K. V. - van de Kruijs, R.W.E. - Smithers, M.A. - van Wolferen, H.A.G.M. - Keim, E.G. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pełka, J.B. - Juha, Libor - Hájková, V. - Vozda, V. - Burian, Tomáš - Saksl, K. - Faatz, B. - Keitel, B. - Plönjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Donker, R. - Mey, T. - Sobierajski, R.
Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold.
Journal of the Optical Society of America. B. Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805. ISSN 0740-3224. E-ISSN 1520-8540
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LM2015083; GA MŠMT LTT17015; GA MŠMT EF16_013/0001552; GA ČR GPP205/11/P712
GRANT EU: European Commission(XE) 654148 - LASERLAB-EUROPE
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: interaction of femtosecond XUV pulses * single-shot ablation threshold * damage accumulation in thin ruthenium films
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.284, rok: 2018
https://www.nature.com/articles/s41598-018-36176-8
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0295348 - 2.0497873 - FZÚ 2019 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Makhotkin, I.A. - Milov, I. - Chalupský, Jaromír - Tiedtke, K. - Enkisch, H. - de Vries, G. - Scholze, F. - Siewert, F. - Sturm, J.M. - Nikolaev, K. - van de Kruijs, R.W.E. - Smithers, M.A. - van Wolferen, H.A.G.M. - Keim, E.G. - Louis, E. - Jacyna, I. - Jurek, M. - Klinger, D. - Pelka, J. B. - Juha, Libor - Hájková, Věra - Vozda, Vojtěch - Burian, Tomáš - Saksl, Karel - Faatz, B. - Keitel, B. - Ploenjes, E. - Schreiber, S. - Toleikis, S. - Loch, R. - Hermann, M. - Strobel, S. - Donker, R. - Mey, T. - Sobierajski, R.
Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold.
Journal of the Optical Society of America. B. Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805. ISSN 0740-3224. E-ISSN 1520-8540
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA17-05167s; GA MŠMT LG15013; GA ČR(CZ) GA14-29772S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: interaction of femtosecond XUV pulses * single-shot ablation threshold * damage accumulation in thin ruthenium films
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 2.284, rok: 2018
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0290344 - 3.0372549 - FZÚ 2012 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
De Grazia, M. - Merdji, H. - Auguste, T. - Carré, B. - Gaudin, J. - Geoffroy, G. - Guizard, S. - Krejčí, F. - Kuba, J. - Chalupský, J. - Cihelka, Jaroslav - Hájková, Věra - Ledinský, Martin - Juha, Libor
Desorption mechanisms in PMMA irradiated by high order harmonics.
Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics III. Bellingham: SPIE, 2011 - (Juha, L.; Bajt, S.; London, R.), 80770L/1-80770L/10. Proceedings of SPIE, 8077. ISBN 9780819486677. ISSN 0277-786X.
[Conference on Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics III. Prague (CZ), 18.04.2011-20.04.2011]
Grant CEP: GA AV ČR KAN300100702; GA MŠMT LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LA08024; GA MŠMT(CZ) ME10046
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: XUV pulses * high order harmonics * PMMA * desorption * chain scission * cross-linking
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
http://dx.doi.org/ 10.1117/12.890093
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0205843