Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0533247 - FZÚ 2021 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Chauvin, A. - Sergievskaya, A. - El Mel, A.-A. - Fučíková, Anna - Correa, Cinthia Antunes - Veselý, J. - Duverger-Nédellec, E. - Cornil, D. - Cornil, J. - Tessier, P.Y. - Dopita, M. - Konstantinidis, S.
    Co-sputtering of gold and copper onto liquids: a route towards the production of porous gold nanoparticles.
    Nanotechnology. Roč. 31, č. 45 (2020), s. 1-13, č. článku 455303. ISSN 0957-4484. E-ISSN 1361-6528
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: nanoparticles * porous * magnetron co-sputtering * alloy * liquid substrate * sputtering onto liquids * dealloying
    Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    Impakt faktor: 3.874, rok: 2020
    Způsob publikování: Omezený přístup
    https://doi.org/10.1088/1361-6528/abaa75
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0311691
     
     
  2. 2.
    0353788 - ÚJF 2011 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
    Kormunda, M. - Pavlík, J. - Macková, Anna - Malinský, Petr
    Characterization of off-axis single target RF magnetron co-sputtered iron doped tin.
    Surface and Coatings Technology. Roč. 205, - (2010), S120-S124. ISSN 0257-8972
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LC06041
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10480505
    Klíčová slova: Magnetron co-sputtering * Off-axis deposition * Amorphous stannic oxide
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Impakt faktor: 2.135, rok: 2010
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0192935
     
     
  3. 3.
    0185820 - UJF-V 20033147 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
    Vlček, J. - Kormunda, M. - Čížek, J. - Soukup, Z. - Peřina, Vratislav - Zemek, Josef
    Reactive magnetron sputtering of Si-C-N films with controlled mechanical and optical properties.
    Diamond and Related Materials. Roč. 12, č. 8 (2003), s. 1287-1294. ISSN 0925-9635. E-ISSN 1879-0062
    Grant CEP: GA MŠMT ME 203; GA MŠMT OC 527.90
    Výzkumný záměr: CEZ:MSM 235200002
    Klíčová slova: silicon-carbon-nitride films * magnetron co-sputtering
    Kód oboru RIV: BG - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače
    Impakt faktor: 1.867, rok: 2003
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0082184
     
     
  4. 4.
    0134653 - FZU-D 20030553 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Vlček, J. - Kormunda, M. - Čízek, J. - Peřina, Vratislav - Zemek, Josef
    Influence of nitrogen-argon gas mixtures on reactive magnetron sputtering of hard Si-C-N films.
    Surface and Coatings Technology. Roč. 160, - (2002), s. 74-81. ISSN 0257-8972
    Grant CEP: GA MŠMT ME 203
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914; CEZ:MSM 235200002; CEZ:AV0Z1048901
    Klíčová slova: silicon-carbon-nitride films * magnetron co-sputtering * mass spectroscopy * elemental composition * surface bonding structure * hardness
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 1.267, rok: 2002
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0032547
     
     
  5. 5.
    0045523 - ÚJF 2007 NL eng A - Abstrakt
    Houška, J. - Vlček, J. - Potocký, Š. - Peřina, Vratislav
    Influence of substrate bias voltage on structure and properties of hard Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering.
    [Vliv předpětí substrátu na strukturu a vlastnosti tvrdých Si-B-C-N vrstev připravených reaktivním magnetronovým rozprašováním.]
    Diamond and Related Materials. Elsevier. Roč. 16, - (2006), s. 29-36. ISSN 0925-9635. E-ISSN 1879-0062
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10480505
    Klíčová slova: nitrogen films * magnetron co-sputtering * elemental composition
    Kód oboru RIV: BG - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0138018
     
     
  6. 6.
    0042127 - ÚJF 2007 RIV JP eng J - Článek v odborném periodiku
    Vlček, J. - Potocký, Š. - Houska, J. - Zeman, P. - Peřina, Vratislav - Setsuhara, Y.
    New quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering.
    [Nové quaternární filmy Si-B-C-N připravené reaktivním magnetronovým naprašováním.]
    Physics of Particules and Nuclei Letters. Roč. 31, č. 2 (2006), s. 447-451
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10480505
    Klíčová slova: Si-C-B-N * magnetron co-sputtering * mechanical properties * high temperature stability * nanostructure
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0135431
     
     


  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.