Výsledky vyhledávání
- 1.0449867 - FZÚ 2016 RIV CZ cze L3 - Certifikované metodiky
Jirásek, Vít - Potocký, Štěpán - Sveshnikov, Alexey
Obecná metodika modelování vysokoteplotních technologických procesů metodou konečných prvků.
[General methodology for high temperature processes of semiconductor technology by the finite element methods.]
Interní kód: CM 2014-04 ; 2014
Technické parametry: Metodika umožňuje výrazně snížit počet ladících procesů při zprovozňování nových pecí u zákazníků. Umožňuje mnohem jednodušší nastavení procesních parametrů pro výrobu konkrétních vrstev na Si deskách
Ekonomické parametry: Díky této metodice dojde ke snížení náročnosti uvádění nových pecí do provozu, čímž dojde k redukci ceny těchto prací až o 3%.
Certifikační orgán: SVCS Process Innovation s.r.o., Optátova 37, Brno 637 00, Česká republika. Datum certifikace: 19.12.2014
Grant CEP: GA TA ČR TA01020972
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: CFD modelling * high temperature reactor * high temperature oxidation * phosphorus diffusion * boron diffusion * LPCVD * PECVD
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0251280 - 2.0398416 - ÚCHP 2014 BG eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Křenek, T. - Fajgar, Radek - Pola, M. - Medlín, R. - Klementová, Mariana - Novotný, F. - Dřínek, Vladislav
Formation of CuxGey Nanoplatelets Using LPCVD of Hexamethyldigermane (Ge2Me6) and Tetraethyllead (PbEt4).
Poster Session 2. -: -, 2013, PS2-18. ISBN N.
[EuroCVD 19. Varna (BG), 01.09.2013-06.09.2013]
Grant CEP: GA ČR GA13-25747S
Institucionální podpora: RVO:67985858 ; RVO:68378271
Klíčová slova: nanoplateles * LPCVD * organometallic precursors
Kód oboru RIV: CA - Anorganická chemie; BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech (FZU-D)
http://www.eurocvd19.org/
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0225924Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup SKMBT_C22013111211570.pdf 0 990 KB Vydavatelský postprint povolen - 3.0365560 - ÚCHP 2012 IE eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Křenek, T. - Dřínek, Vladislav - Fajgar, Radek - Medlín, R. - Klementová, Mariana
Low Pressure Chemical Vapor Deposition of Ge2Me6 + SnMe4 Mixture for Nanoplatelet Formation.
Conference Programme and Abstracts. -: -, 2011, s. 146. ISSN N.
[EuroCVD 18. Kinsale, Co. Cork (IE), 04.09.2011-09.09.2011]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z40720504; CEZ:AV0Z40320502
Klíčová slova: nanoplatelets * LPCVD * nanowires
Kód oboru RIV: CH - Jaderná a kvantová chemie, fotochemie
http://arl-repository.lib.cas.cz/nusl/UCHP-M/cav_un_epca-0365560_01.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0200779