Výsledky vyhledávání

  1. 1.
    0485935 - FZÚ 2018 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Hubička, Zdeněk - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří - Čada, Martin - Straňák, V. - Klusoň, J. - Tichý, M. - Klusoň, Petr
    Application of low temperature plasma jet systems for the deposition of thin films.
    XIXth Symposium on Physics of Switching Arc. Brno: Brno University of Technology, 2011 - (Aubrecht, V.), s. 47-56. ISBN 978-163266006-0.
    [XIXth Symposium on Physics of Switching Arc. Brno (CZ), 05.09.2011-11.09.2011]
    Grant CEP: GA ČR(CZ) GAP205/11/0386; GA AV ČR KAN400720701
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
    Institucionální podpora: RVO:68378271 ; RVO:67985858
    Klíčová slova: plasma jet * TiO2 thin film * photocatalytic * XRD * IVDF * RFA
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics); Inorganic and nuclear chemistry (UCHP-M)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0280850
     
     
  2. 2.
    0421856 - FZÚ 2014 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
    Čada, Martin - Adámek, Petr - Straňák, V. - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří - Hubička, Zdeněk - Hippler, R.
    Angle-resolved investigation of ion dynamics in high power impulse magnetron sputtering deposition system.
    Thin Solid Films. Roč. 549, DEC (2013), s. 177-183. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
    Grant CEP: GA MŠMT LD12002
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: HiPIMS * titania * Katsumata probe * ion sensitive probe * IVDF * angular resolution
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Impakt faktor: 1.867, rok: 2013
    http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609013011127
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0228107
     
     
  3. 3.
    0377074 - FZÚ 2013 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
    Straňák, V. - Drache, S. - Bogdanowicz, R. - Wulff, H. - Herrendorf, A.-P. - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Tichý, M. - Hippler, R.
    Effect of mid-frequency discharge assistance on dual-high power impulse magnetron sputtering.
    Surface and Coatings Technology. Roč. 206, 11-12 (2012), s. 2801-2809. ISSN 0257-8972
    Grant CEP: GA TA ČR TA01010517; GA ČR(CZ) GAP205/11/0386; GA ČR GP202/09/P159; GA ČR GA202/09/0800
    Grant ostatní: MŠMT(CZ) CZ.1.05/2.1.00/03.0058
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
    Klíčová slova: dual magnetron * HiPIMS * MF discharge * Ti-Cu films * IVDF * XRD
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Impakt faktor: 1.941, rok: 2012
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0209328
     
     


  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.