Výsledky vyhledávání
- 1.0585696 - ÚFCH JH 2025 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Krýsová, Hana - Cichoň, S. - Kapran, A. - Volfová, L. - Chvostová, D. - Imrich, T. - Neumann-Spallart, M. - Krýsa, J. - Hubička, Z.
Deposition of Fe2O3:Sn semiconducting thin films by reactive pulsed HiPIMS + ECWR co-sputtering from Fe and Sn targets.
Journal of Photochemistry and Photobiology A-Chemistry. Roč. 454, SEP 2024 (2024), č. článku 115676. ISSN 1010-6030. E-ISSN 1873-2666
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA23-05266S; GA MŠMT(CZ) LM2023066; GA MŠMT(CZ) EF16_013/0001821
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab - 90110
Institucionální podpora: RVO:61388955
Klíčová slova: HiPIMS * ECWR * Co-sputtering
Obor OECD: Physical chemistry
Impakt faktor: 4.3, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S101060302400220X?via%3Dihub
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0353396Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0585696.pdf 0 2.7 MB Vydavatelský postprint vyžádat - 2.0574651 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Antunes, V.G. - Rudolph, M. - Kapran, Anna - Hajihoseini, H. - Raadu, M.A. - Brenning, N. - Gudmundsson, J.T. - Lundin, D. - Minea, T.
Influence of the magnetic field on the extension of the ionization region in high power impulse magnetron sputtering discharges.
Plasma Sources Science & Technology. Roč. 32, č. 7 (2023), č. článku 075016. ISSN 0963-0252. E-ISSN 1361-6595
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: magnetron sputtering * HiPIMS * ionization region * magnetic field * optical emission spectroscopy
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.8, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1088/1361-6595/ace847
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0349495 - 3.0567523 - FZÚ 2023 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Mareš, P. - Dubau, M. - Polášek, J. - Mates, Tomáš - Kozák, T. - Vyskočil, J.
High deposition rate films prepared by reactive HiPIMS.
Vacuum. Roč. 191, Sep (2021), č. článku 110329. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT LM2018110; GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MPO FV30177
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760; AV ČR(CZ) StrategieAV21/6
Program: StrategieAV
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: reactive magnetron sputtering * HiPIMS * Monte-carlo simulations * deposition rate * sputtering yield
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 4.110, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110329
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0338777 - 4.0567078 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Kapran, Anna - Antunes, V.G. - Hubička, Zdeněk - Ballage, C. - Minea, T.
Investigation of the magnetron balancing effect on the ionized flux fraction and deposition rate of sputtered titanium species for the high-power impulse magnetron sputtering pulses of different lengths.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 41, č. 1 (2023), č. článku 013003. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA21-04477S; GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * magnetron * ionized flux fraction * unbalanced magnetic field
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.9, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1116/6.0002309
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0342037 - 5.0566773 - FZÚ 2023 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hrubantová, Aneta - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Čada, Martin - Gedeon, O. - Jiříček, Petr - Houdková, Jana - Olejníček, Jiří - Nepomniashchaia, Natalia - Helm, C.A. - Hubička, Zdeněk
Copper tungsten oxide (CuxWOy) thin films for optical and photoelectrochemical applications deposited by reactive high power impulse magnetron co-sputtering.
Journal of Applied Physics. Roč. 132, č. 21 (2022), č. článku 215301. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab - 90110
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * sputtering * photoelectrochemical activity * FTO glass * film properties
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 3.2, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0338068Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0566773.pdf 0 3.5 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 6.0562105 - FZÚ 2023 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Vyskočil, J. - Mareš, P. - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Mates, Tomáš
Hybrid HiPIMS + controlled pulsed arc for deposition of hard coatings.
Surface and Coatings Technology. Roč. 446, Sep (2022), č. článku 128765. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA MPO FV30177
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * arc discharge * plasma * sputtering * cathodic arc evaporation
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 5.4, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.128765
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0334526 - 7.0560961 - FZÚ 2023 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Prysiazhnyi, V. - Kratochvíl, Jan - Kaftan, D. - Čtvrtlík, R. - Straňák, Vítězslav
Growth of hard nanostructured ZrN surface induced by copper nanoparticles.
Applied Surface Science. Roč. 562, Oct (2021), č. článku 150230. ISSN 0169-4332. E-ISSN 1873-5584
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hard nanostructures * Roughness gradient * Cu nanoparticles * gas aggregation source * seed-like growth * ZrN * HiPIMS
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 7.392, rok: 2021
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0333730Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0560961.pdf 1 5.2 MB CC licence Vydavatelský postprint povolen - 8.0552303 - FZÚ 2022 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hippler, Rainer - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Direct current and high power impulse magnetron sputtering discharges with a positively biased anode.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 39, č. 4 (2021), č. článku 043007. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MPO FV20580; GA ČR GA19-00579S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: magnetron * mass spectrometry * Langmuir probe * anode bias * HiPIMS
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.234, rok: 2021
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327435Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0552303.pdf 1 4.6 MB CC Licence Vydavatelský postprint povolen - 9.0552199 - FZÚ 2022 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Sezemsky, P. - Burnat, D. - Kratochvíl, J. - Wulff, H. - Kruth, A. - Lechowicz, K. - Janik, M. - Bogdanowicz, R. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Niedzialkowski, P. - Bialobrzeska, W. - Straňák, V. - Smietana, M.
Tailoring properties of indium tin oxide thin films for their work in both electrochemical and optical label-free sensing systems.
Sensors and Actuators B - Chemical. Roč. 343, Sep (2021), č. článku 130173. E-ISSN 0925-4005
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: Indium tin oxide * sensor * optical sensing * HiPIMS * sputtering
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 9.221, rok: 2021
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327330Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0552199.pdf 2 4.4 MB CC Licence Vydavatelský postprint povolen - 10.0552174 - FZÚ 2022 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Hubička, Zdeněk - Mareš, P. - Dubau, M. - Vyskočil, J.
Zdroj pro technologii HIPIMS s obloukovým odpařováním.
[Source for HiPIMS technology with arc evaporation.]
Interní kód: FVHA/FZU/2021 ; 2021
Technické parametry: HiPIMS zdroj plazmatu–pulzní frekvence: 10-1 000 Hz HiPIMS zdroj plazmatu–doba pulzu: 30 -1 000 µs Zdroj plazmového oblouku–typický proud: > 10 A/cm2 Zdroj plazmového oblouku–max. napětí: 2 000 V
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA MPO FV30177
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * HiPIMS * arc * magnetron * DLC
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327317