Vytisknout
0555694 - ÚFP 2022 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Das, Nirmal Kumar - Kanclíř, Vít - Mokrý, Pavel - Žídek, Karel
Bulk and interface second harmonic generation in the Si3N4 thin films deposited via ion beam sputtering.
Journal of Optics. Roč. 23, č. 2 (2021), č. článku 024003. ISSN 2040-8978. E-ISSN 2040-8986
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_026/0008390; GA ČR(CZ) GA19-22000S
Grant ostatní: AV ČR(CZ) ERC100431901
Program: ERC-CZ/AV
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: silicon nitride * thin films * ellipsometry * second harmonic generation (SHG) * bulk * interface
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 2.077, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://iopscience.iop.org/article/10.1088/2040-8986/abe450
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0330158
Das, Nirmal Kumar - Kanclíř, Vít - Mokrý, Pavel - Žídek, Karel
Bulk and interface second harmonic generation in the Si3N4 thin films deposited via ion beam sputtering.
Journal of Optics. Roč. 23, č. 2 (2021), č. článku 024003. ISSN 2040-8978. E-ISSN 2040-8986
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_026/0008390; GA ČR(CZ) GA19-22000S
Grant ostatní: AV ČR(CZ) ERC100431901
Program: ERC-CZ/AV
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: silicon nitride * thin films * ellipsometry * second harmonic generation (SHG) * bulk * interface
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 2.077, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://iopscience.iop.org/article/10.1088/2040-8986/abe450
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0330158