Vytisknout
0545142 - ÚPT 2022 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
SMV-2021-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2021-03: Development of test specimens for SEM.]
Brno: Tescan Brno, s.r.o., 2021. 6 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321890
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav
SMV-2021-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2021-03: Development of test specimens for SEM.]
Brno: Tescan Brno, s.r.o., 2021. 6 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0321890