Vytisknout
0524998 - FZÚ 2021 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Kohout, Michal - Perekrestov, Roman - Tvarog, D. - Kment, Štěpán - Kmentová, H. - Hubička, Zdeněk
High rate deposition of photoactive TiO2 films by hot hollow cathode.
Surface and Coatings Technology. Roč. 383, Feb (2020), s. 1-10, č. článku 125256. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MŠMT EF16_013/0001406; GA ČR GA17-20008S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760; OP VVV - SAFMAT(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_013/0001406
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: TiO2 * hollow cathode discharge * sputtering * thermal evaporation * deposition rate
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4.158, rok: 2020
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2019.125256
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0309201
Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Kohout, Michal - Perekrestov, Roman - Tvarog, D. - Kment, Štěpán - Kmentová, H. - Hubička, Zdeněk
High rate deposition of photoactive TiO2 films by hot hollow cathode.
Surface and Coatings Technology. Roč. 383, Feb (2020), s. 1-10, č. článku 125256. ISSN 0257-8972
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA MŠMT EF16_013/0001406; GA ČR GA17-20008S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760; OP VVV - SAFMAT(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_013/0001406
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: TiO2 * hollow cathode discharge * sputtering * thermal evaporation * deposition rate
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4.158, rok: 2020
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2019.125256
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0309201