Vytisknout
0486979 - FZÚ 2018 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hippler, R. - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Wulff, H. - Helm, C.A. - Straňák, V.
Angular dependence of plasma parameters and film properties during high power impulse magnetron sputtering for deposition of Ti and TiO2 layers.
Journal of Applied Physics. Roč. 121, č. 17 (2017), s. 1-9, č. článku 171906. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA15-00863S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * Langmuir probe * titanium dioxide * angular dependence * XRD * SEM
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.176, rok: 2017
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0281685
Hippler, R. - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kšírová, Petra - Wulff, H. - Helm, C.A. - Straňák, V.
Angular dependence of plasma parameters and film properties during high power impulse magnetron sputtering for deposition of Ti and TiO2 layers.
Journal of Applied Physics. Roč. 121, č. 17 (2017), s. 1-9, č. článku 171906. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA15-00863S
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * Langmuir probe * titanium dioxide * angular dependence * XRD * SEM
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.176, rok: 2017
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0281685