Vytisknout
0486974 - FZÚ 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tvarog, Drahoslav - Pultar, M. - Šmíd, Jiří - Straňák, Vítězslav - Olejníček, Jiří - Poruba, Aleš - Vaněk, J. - Pečiva, L. - Lukašík, P. - Dolák, J.
Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm.
[Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm.]
Interní kód: FV1/FZU/2017 ; 2017
Technické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Ekonomické parametry: Vyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
Grant CEP: GA TA ČR TF03000025
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: Microwave surfatron * thin films * low-temperature plasma * ALD * deposition * plasma diagnostics
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0281681
Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Tvarog, Drahoslav - Pultar, M. - Šmíd, Jiří - Straňák, Vítězslav - Olejníček, Jiří - Poruba, Aleš - Vaněk, J. - Pečiva, L. - Lukašík, P. - Dolák, J.
Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm.
[Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm.]
Interní kód: FV1/FZU/2017 ; 2017
Technické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Ekonomické parametry: Vyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
Grant CEP: GA TA ČR TF03000025
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: Microwave surfatron * thin films * low-temperature plasma * ALD * deposition * plasma diagnostics
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0281681