Vytisknout
0449525 - FZÚ 2016 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Remeš, Zdeněk - Holovský, Jakub - Purkrt, Adam - Stuchlík, Jiří
Thin film limit correction method to the surface defective layer in low absorption spectroscopy.
Advanced Science, Engineering and Medicine. Roč. 7, č. 4 (2015), s. 343-346. ISSN 2164-6627
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA14-05053S; GA MŠMT(CZ) LD14011
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: thin films * optical properties * hydrogenated amorphous silicon * photothermal deflection spectroscopy
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0251075
Remeš, Zdeněk - Holovský, Jakub - Purkrt, Adam - Stuchlík, Jiří
Thin film limit correction method to the surface defective layer in low absorption spectroscopy.
Advanced Science, Engineering and Medicine. Roč. 7, č. 4 (2015), s. 343-346. ISSN 2164-6627
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA14-05053S; GA MŠMT(CZ) LD14011
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: thin films * optical properties * hydrogenated amorphous silicon * photothermal deflection spectroscopy
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0251075