Vytisknout
0560691 - FZÚ 2023 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Irimiciuc, Stefan - Chertopalov, Sergii - Novotný, Michal - Craciun, V. - Lančok, Ján
Understanding pulsed laser deposition process of copper halides via plasma diagnostics techniques.
Journal of Applied Physics. Roč. 130, č. 24 (2021), č. článku 243302. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA20-21069S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: Langmuir probe * iodide thin-films * ambient gas
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 2.877, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1063/5.0077082
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0333550
Irimiciuc, Stefan - Chertopalov, Sergii - Novotný, Michal - Craciun, V. - Lančok, Ján
Understanding pulsed laser deposition process of copper halides via plasma diagnostics techniques.
Journal of Applied Physics. Roč. 130, č. 24 (2021), č. článku 243302. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA20-21069S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: Langmuir probe * iodide thin-films * ambient gas
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 2.877, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1063/5.0077082
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0333550