Vytisknout
0551091 - FZÚ 2022 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Kashir, Alireza - Farahani, M.G. - Kamba, Stanislav - Yadav, M. - Hwang, H.
Hf1−xZrxO2/ZrO2 nanolaminate thin films as a high‑κ dielectric.
ACS Applied Electronic Materials. Roč. 3, č. 12 (2021), s. 5632-5640. E-ISSN 2637-6113
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-06802S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: ferroelectric * antiferroelectric * thin films * permittivity
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 4.494, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1021/acsaelm.1c01105
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327442
Kashir, Alireza - Farahani, M.G. - Kamba, Stanislav - Yadav, M. - Hwang, H.
Hf1−xZrxO2/ZrO2 nanolaminate thin films as a high‑κ dielectric.
ACS Applied Electronic Materials. Roč. 3, č. 12 (2021), s. 5632-5640. E-ISSN 2637-6113
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-06802S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: ferroelectric * antiferroelectric * thin films * permittivity
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 4.494, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1021/acsaelm.1c01105
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0327442