Vytisknout
0525191 - ÚPT 2021 RIV SK eng J - Článek v odborném periodiku
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Řiháček, Tomáš - Knápek, Alexandr - Kolařík, Vladimír
Functional nano-structuring of thin silicon nitride membranes.
Journal of Electrical Engineering - Elektrotechnický časopis. Roč. 71, č. 2 (2020), s. 127-130. ISSN 1335-3632. E-ISSN 1339-309X
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008; GA MŠMT ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: membrane * nano optical device * electron optics * electron beam lithography * silicon nitride * reactive ion etching * silicon etching * microfabrication
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Impakt faktor: 0.647, rok: 2020
Způsob publikování: Open access
https://content.sciendo.com/view/journals/jee/71/2/article-p127.xml
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0309382
Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Řiháček, Tomáš - Knápek, Alexandr - Kolařík, Vladimír
Functional nano-structuring of thin silicon nitride membranes.
Journal of Electrical Engineering - Elektrotechnický časopis. Roč. 71, č. 2 (2020), s. 127-130. ISSN 1335-3632. E-ISSN 1339-309X
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008; GA MŠMT ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: membrane * nano optical device * electron optics * electron beam lithography * silicon nitride * reactive ion etching * silicon etching * microfabrication
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Impakt faktor: 0.647, rok: 2020
Způsob publikování: Open access
https://content.sciendo.com/view/journals/jee/71/2/article-p127.xml
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0309382