Vytisknout
0510813 - FZÚ 2020 RIV IT eng J - Článek v odborném periodiku
Krysa, J. - Zlámal, M. - Kment, Štěpán - Hubička, Zdeněk
Photo-electrochemical properties of WO3 and alpha-Fe2O3 thin films.
Chemical Engineering Transactions. Chemical Engineering Transactions. Roč. 41, SI (2014), s. 379-384. ISSN 1974-9791
Grant CEP: GA ČR GAP108/12/2104
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * HiPIMS * thin films
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0301192
Krysa, J. - Zlámal, M. - Kment, Štěpán - Hubička, Zdeněk
Photo-electrochemical properties of WO3 and alpha-Fe2O3 thin films.
Chemical Engineering Transactions. Chemical Engineering Transactions. Roč. 41, SI (2014), s. 379-384. ISSN 1974-9791
Grant CEP: GA ČR GAP108/12/2104
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * HiPIMS * thin films
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0301192