Košík

0579329 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Suman, S. - Sharma, Dhananjay K. - Sain, S. - Szabó, Ondrej - Sethy, S.K. - Rakesh, B. - Balaji, U. - Marton, M. - Vojs, M. - Roy, S.S. - Sakthivel, R. - Sankaran, K.J. - Kromka, Alexander
Nanoscale investigation on the improvement of electrical properties of boron-doped diamond nanostructures for high-performance plasma displays.
ACS Applied Electronic Materials. Roč. 5, č. 9 (2023), s. 4946-4958. E-ISSN 2637-6113
Grant CEP: GA ČR(CZ) GF23-04322L
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab II - 90251
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: boron-doped diamond * reactive ion etching * diamond nanostructures * emission sites * microplasma illumination
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4.7, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1021/acsaelm.3c00713
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0348173