Košík

0574800 - ÚPT 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Čech, V. - Bránecký, Martin
Synthesis of thin-film materials using nonthermal plasma at a higher degree of dissociation.
Plasma Processes and Polymers. Roč. 20, č. 7 (2023), č. článku 2300019. ISSN 1612-8850. E-ISSN 1612-8869
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: degree of dissociation * nonthermal plasma * organosilicon precursors * plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) * sticking coefficient * thin films
Obor OECD: Polymer science
Impakt faktor: 3.5, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/ppap.202300019
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0344768