Košík

0574018 - ÚJF 2024 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Romanenko, Oleksandr V. - Lavrentiev, Vasyl - Borodkin, Andrei - Havránek, Vladimír - Macková, Anna
Comparison of PMMA shrinkage in ion beam lithography: PMMA on glass substrate vs free-standing PMMA film.
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B. Roč. 538, MAY (2023), s. 123-130. ISSN 0168-583X. E-ISSN 1872-9584
Grant CEP: GA MŠMT EF18_053/0017163
Institucionální podpora: RVO:61389005 ; RVO:67985882
Klíčová slova: PMMA shrinkage * Ion beam lithography * Microstructuring * Diffraction grating
Obor OECD: Nuclear physics; Optics (including laser optics and quantum optics) (URE-Y)
Impakt faktor: 1.3, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.nimb.2023.02.001
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0344381