Košík

0573847 - FZÚ 2024 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Kapran, Anna - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Olejníček, Jiří - Písaříková, Aneta - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Characteristics of a pulsed hollow cathode discharge operated in an Ar+O₂ gas mixture and deposition of copper nickel oxide thin films.
Vacuum. Roč. 215, Sept. (2023), č. článku 112272. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharg * plasma diagnostics * mixed CuNiO thin film * film diagnostics * photoelectrochemical activity
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2023.112272
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0344198