Košík

0571728 - ÚFE 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Vasin, Andrii - Slobodian, O. - Rusavsky, A. - Gudymenko, O. - Lytvyn, P. - Tiagulskyi, Stanislav - Yatskiv, Roman - Grym, Jan - Bortchagovsky, E.B. - Dzhagan, V. - Zahn, D. - Nazarov, A.
Nanoscale morphology tailoring in plasma deposited CN (x) layers.
Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 56, č. 27 (2023), č. článku 275302. ISSN 0022-3727. E-ISSN 1361-6463
Institucionální podpora: RVO:67985882
Klíčová slova: CN (x) thin layers * nanoscale morphological shaping * plasma deposition
Obor OECD: Materials engineering
Impakt faktor: 3.4, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0345173