Košík

0561882 - ÚPT 2023 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Chylek, J. - Maniaková, P. - Hlubina, P. - Sobota, Jaroslav - Pudiš, D.
Highly Sensitive Plasmonic Structures Utilizing a Silicon Dioxide Overlayer.
Nanomaterials. Roč. 12, č. 18 (2022), č. článku 3090. E-ISSN 2079-4991
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: surface plasmon resonance * Kretschmann configuration * silicon dioxide overlayer * reflectance * aqueous analyte sensing
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 5.3, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
https://www.mdpi.com/2079-4991/12/18/3090
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0335270