Košík

0561204 - FZÚ 2023 RIV RU eng J - Článek v odborném periodiku
Rodionov, A.A. - Starinskiy, S.V. - Shukhov, Y.G. - Bulgakov, Alexander
Deposition of oxide nanostructures by nanosecond laser ablation of silicon in an oxygen-containing background gas.
Thermophysics and Aeromechanics. Roč. 28, č. 4 (2021), s. 549-554. ISSN 0869-8643. E-ISSN 1531-8699
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: pulsed laser deposition * thin films * non-stoichiometric silicon oxide * laser ablation in background gas
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 0.824, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1134/S0869864321040089
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0333878