Košík

0556440 - FZÚ 2023 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Kashir, Alireza - Farahani, M.G. - Hwang, H.
Towards an ideal high-κ HfO₂–ZrO₂-based dielectric.
Nanoscale. Roč. 13, č. 32 (2021), s. 13631-13640. ISSN 2040-3364. E-ISSN 2040-3372
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: dielectric properties of solids * electric fields * electronics industry * ferroelectric films * ferroelectricity * Hafnium oxides * Zirconia
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 8.307, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0330666