Košík

0539789 - ÚIACH 2022 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Vyhnanovský, Jaromír - Yildiz, D. - Štádlerová, Barbora - Musil, Stanislav
Efficient photochemical vapor generation of bismuth using a coiled Teflon reactor: Effect of metal sensitizers and analytical performance with flame-in-gas-shield atomizer and atomic fluorescence spectrometry.
Microchemical Journal. Roč. 164, MAY (2021), č. článku 105997. ISSN 0026-265X. E-ISSN 1095-9149
Grant CEP: GA ČR(CZ) GJ19-17604Y
Institucionální podpora: RVO:68081715
Klíčová slova: bismuth * photochemical vapor generation * atomic spectrometry
Obor OECD: Analytical chemistry
Impakt faktor: 5.304, rok: 2021
Způsob publikování: Omezený přístup
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0317494