Košík

0537050 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Hnilica, J. - Klein, P. - Vašina, P.
Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů.
[Device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages.]
Interní kód: FVNCK1/FZU/2020 ; 2020
Technické parametry: Délka pulzu: 30 μs, vzdálenost mezi pulzy v balíčku: 20 μs, střída: 5 %, počet pulzů:4, pracovní tlak v reaktoru: 1 Pa
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR TN01000038
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * deposition rate * pulse package * ionization fraction
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314801