Košík

0533965 - FZÚ 2021 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hajihoseini, H. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Ünaldi, S. - Raadu, M.A. - Brenning, N. - Gudmundsson, J.T. - Lundin, D.
Sideways deposition rate and ionized flux fraction in dc and high power impulse magnetron sputtering.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 38, č. 3 (2020), s. 1-11, č. článku 033009. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR GA19-00579S
Grant ostatní: OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: plasma * ion flux * HiPIMS * sputtering
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.427, rok: 2020
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1116/1.5145292
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0312189