Košík

  1. 1.
    0510813 - FZÚ 2020 RIV IT eng J - Článek v odborném periodiku
    Krysa, J. - Zlámal, M. - Kment, Štěpán - Hubička, Zdeněk
    Photo-electrochemical properties of WO3 and alpha-Fe2O3 thin films.
    Chemical Engineering Transactions. Chemical Engineering Transactions. Roč. 41, SI (2014), s. 379-384. ISSN 1974-9791
    Grant CEP: GA ČR GAP108/12/2104
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: sputtering * HiPIMS * thin films
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Způsob publikování: Open access
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0301192
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    0510813.pdf1821.7 KBOAVydavatelský postprintpovolen
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.