0510672 - FZÚ 2020 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Ohashi, H. - Higashiguchi, T. - Suzuki, Y. - Arai, G. - Otani, Y. - Yatagai, T. - Li, B. - Dunne, P. - O'Sullivan, G. - Jiang, W. - Endo, Akira - Sakaue, H.A. - Kato, D. - Murakami, I. - Tamura, M. - Sudo, S. - Koike, F. - Suzuki, Ch.Quasi-Moseley's law for strong narrow bandwidth soft x-ray sources containing higher charge-state ions.
Applied Physics Letters. Roč. 104, č. 23 (2014), s. 1-5, č. článku 234107. ISSN 0003-6951
Grant CEP: GA MŠk ED2.1.00/01.0027; GA MŠk EE2.3.20.0143
Grant ostatní:HILASE(XE) CZ.1.05/2.1.00/01.0027; OP VK 6(XE) CZ.1.07/2.3.00/20.0143
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: thin plasmas of high-Z elements * x-ray microscopy
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Impakt faktor: 3.302, rok: 2014
https://doi.org/10.1063/1.4883475
Trvalý link:
http://hdl.handle.net/11104/0301088
