0500350 - FZÚ 2019 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Bulíř, Jiří - Novotný, Michal - Fitl, P. - Vrňata, M. - Bodnár, M. - Lančok, JánDepoziční aparatura pro depozici vrstev pomocí plazmové polymerizace RF výbojem.
[Deposition system for preparation of thin films by RF discharge plasma polymerization.]
Interní kód: Depoziční aparatura pro depozici vrstev pomocí plazmové polymerizace RF výbojem ; 2018
Technické parametry: Mezní tlak 10E-3 Pa, pracovní tlak 5 Pa, RF výkon 20 W, RF frekvence 13,56 MHz
Ekonomické parametry: Vytvoření nové technologie výroby, zvýšení adaptability produktů, zlepšení postavení firmy na trhu.
Grant CEP: GA MPO FV20350; GA MŠMT(CZ) LO1409
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: chemical gas sensor * plasma polymerization * magnetron sputtering
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292441
