0485925 - FZÚ 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Kšírová, Petra - Klinger, MiloslavPlazmová aparatura pro povlakování dutých komponent.
[Plasmatic system for coatings of hollow substrates.]
Interní kód: FVG1/FZU/2017 ; 2017
Technické parametry: Generace plazmatu: dutá katoda, druh výboje: RF/DC/DC-pulzní, výkon v plazmatu: max 150 W, průtok argonu: 50-250 sccm, pracovní tlak: 1-20 Pa. Délka povlakované trubky: max 200 mm.
Ekonomické parametry: Plazmová depoziční aparatura byla vyvinuta v rámci projektu GAMA TAČR a bude nabídnuta průmyslovým partnerům jako technologie pro povlakování strojních komponent.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TG02010056
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0280842
