Košík

  1. 1.
    0485925 - FZÚ 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Tvarog, Drahoslav - Kšírová, Petra - Klinger, Miloslav
    Plazmová aparatura pro povlakování dutých komponent.
    [Plasmatic system for coatings of hollow substrates.]
    Interní kód: FVG1/FZU/2017 ; 2017
    Technické parametry: Generace plazmatu: dutá katoda, druh výboje: RF/DC/DC-pulzní, výkon v plazmatu: max 150 W, průtok argonu: 50-250 sccm, pracovní tlak: 1-20 Pa. Délka povlakované trubky: max 200 mm.
    Ekonomické parametry: Plazmová depoziční aparatura byla vyvinuta v rámci projektu GAMA TAČR a bude nabídnuta průmyslovým partnerům jako technologie pro povlakování strojních komponent.
    Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TG02010056
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
    Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0280842