0465021 - FZÚ 2017 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Šmíd, Jiří - Olejníček, Jiří - Hubička, Zdeněk - Čada, MartinVícetryskový PVD depoziční systém.
[Multijet PVD deposition system.]
Interní kód: UHV-4DK/FZU2016 ; 2016
Technické parametry: Výsledek je tvořen UHV systémem čerpaným rotační a turbomolekulární vývěvou a obsahuje 4 lineární plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě. Systém je průběžně upgradován. Ve spouštěcí konfi-guraci měl následující technické parametry: mezní tlak p0: 1x10-3 Pa, pracovní tlak pw: 0.1 – 100 Pa, maximální napětí na zdroji: Um: 600 V, maximální výbojový proud: Im: 5 A, příčný rozměr substrátu lm: až 20 cm, maximální depoziční rychlost dosažená pro TiO2 vrstvy rm: 20 μm/hod.
Ekonomické parametry: Vyvinutý depoziční systém umožňuje vysokorychlostní depozici homogenních oxidových vrstev. Oproti dostupným komerčním magnetronovým systémům dosahuje v DC režimu až desetinásobnou depoziční rychlost.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharge * multi plasma-jet * thin films * PVD * sputtering
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0263763