Košík

  1. 1.
    0453286 - ÚFP 2020 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Schmidt, Jiří - Koláček, Karel - Frolov, Oleksandr - Štraus, Jaroslav
    XUV Source Based on the Fast High-Current Capillary-Discharge System.
    Proceedings of the 2014 IEEE International Power Modulator and High Voltage Conference, IPMHVC 2014. Santa Fe: IEEE, Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc, 2014 - (Garner, A.), s. 360-362. ISBN 978-1-4673-7323-4.
    [IEEE International Power Modulator and High Voltage Conference, IPMHVC 2014. Santa Fe (US), 01.06.2014-05.06.2014]
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LG13029; GA ČR(CZ) GA14-29772S
    Institucionální podpora: RVO:61389021
    Klíčová slova: Capillary discharge * XUV laser
    Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
    https://ieeexplore.ieee.org/document/7287283
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0254113
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.