Košík

0449520 - FZÚ 2016 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Lundin, D. - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Ionization of sputtered Ti, Al, and C coupled with plasma characterization in HiPIMS.
Plasma Sources Science & Technology. Roč. 24, č. 3 (2015), s. 035018. ISSN 0963-0252. E-ISSN 1361-6595
Grant CEP: GA MŠMT LH12043
GRANT EU: European Commission(XE) 608800 - HIPPOCAMP
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: IPVD * HiPIMS * HPPMS * Langmuir probe * ion meter
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 2.808, rok: 2015
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0251068