Košík

0436748 - FZÚ 2015 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Adámek, Petr
Multifunkční držák substrátu pro plazmové depozice tenkých optických vrstev.
[Multifunctional substrate holder for plasma depositions of optical thin films.]
Interní kód: MFSH2014 ; 2014
Technické parametry: Rotační rychlost: 0-200 RPM; vakuová těsnost: 1x10-10 mbar l s-1; maximální dosažená teplota: 400 °C; maximální příkon vytápění: 180 W; maximální amplituda RF předpětí při frekvenci 13.56 MHz: 1000 V
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * magnetron * reactive sputtering
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0240432