Košík

  1. 1.
    0432632 - FZÚ 2015 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Domonkos, Mária - Ižák, Tibor - Babchenko, Oleg - Varga, Marián - Hruška, Karel - Kromka, Alexander
    Mask-free surface structuring of micro- and nanocrystalline diamond films by reactive ion plasma etching.
    Advanced Science, Engineering and Medicine. Roč. 6, č. 7 (2014), s. 780-784. ISSN 2164-6627
    Grant CEP: GA ČR GAP108/12/0910; GA ČR GAP108/12/0996; GA MPO FR-TI2/736
    Institucionální podpora: RVO:68378271
    Klíčová slova: micro- and nanocrystalline diamond * capacitively coupled plasma * reactive ion etching * nanostructuring * scanning electron microscopy
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0237011