Košík

0429848 - ÚPT 2015 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Urbánek, Michal - Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav
Plazmochemické leptání křemíku v zařízení Diener nano.
[Plasmochemical Etching of Silicon in Diener Nano Device.]
Chemické listy. Roč. 108, č. 6 (2014), s. 592-595. ISSN 0009-2770. E-ISSN 1213-7103
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212
Klíčová slova: plasmochemical etching * silicon * etching rate * selectivity
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Impakt faktor: 0.272, rok: 2014
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0234865